矽片表面薄膜厚度的測試光學反射法

國家標準《矽片表面薄膜厚度的測試 光學反射法》（GB/T 40279-2021） 由TC203（全國半導體設備和材料標準化技術委員會）歸口，TC203SC2（全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分會）執行 ，主管部門為國家標準化管理委員會。

2021年8月20日，《矽片表面薄膜厚度的測試 光學反射法》由國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會發布，並於2022年3月1日實施。

基本介紹

• 中文名：矽片表面薄膜厚度的測試 光學反射法
• 頒布時間：2021年8月20日
• 實施時間：2022年3月1日
• 發布單位：國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會

修訂信息

2021年8月20日，《矽片表面薄膜厚度的測試 光學反射法》由國家市場監督管理總局、中國國家標準化管理委員會發布，並於2022年3月1日實施。

起草工作

主要起草單位 有研半導體材料有限公司 、山東有研半導體材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、優尼康科技有限公司 、中環領先半導體材料有限公司 、浙江海納半導體有限公司 、麥斯克電子材料股份有限公司 、翌穎科技（上海）有限公司 、開化縣檢驗檢測研究院 。

主要起草人 徐繼平 、寧永鐸 、盧立延 、孫燕 、張海英 、由佰玲 、潘金平 、李揚 、胡曉亮 、張雪囡 、樓春蘭 、盤健冰 。