石墨烯CVD

石墨烯CVD是一種用於化學、材料科學、能源科學技術、化學工程領域的分析儀器，於2018年5月7日啟用。

基本介紹

• 中文名：石墨烯CVD
• 產地：中國
• 學科領域：化學、材料科學、能源科學技術、化學工程
• 啟用日期：2018年5月7日
• 所屬類別：分析儀器 > 樣品前處理及製備儀器

技術指標

◆ 兼容真空及常壓兩種主流的生長模式 G-CVD系統是一套完備的石墨烯製備系統，包括硬體和軟體部分。工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制，可以在10-3 Torr ~ 760 Torr之間的任意氣壓下進行石墨烯的生長。既可以生長出六邊形的石墨烯單晶，也可以生長出花瓣狀的石墨烯的單晶。 ◆ 計算機自動控制，內置多種生長參數 整個石墨烯生長過程的重要參數由計算機進行精確控制，包括溫度、氣體流量等。控制軟體內置多種生長最佳化參數，用戶僅需將襯底放入樣品腔，即可開始生長。 ◆ 製備高質量石墨烯單晶，單晶尺寸可達數毫米 採用特殊最佳化的生長條件，可以得到尺寸達數毫米的單疇單晶。在多晶薄膜方面，可以製備得到數十厘米尺寸的單層石墨烯薄膜。 ◆ 生長13C同位素石墨烯，研究石墨烯生長動力學過程 G-CVD系統有13C同位素選項，交替生長不同同位素石墨烯， 用於研究石墨烯生長的動力學過程。

主要功能

石墨烯CVD是由廈門烯成新材料科技有限公司與國內頂尖石墨烯研究機構合作開發的二維材料生長系統。G-CVD具備真空及常壓兩種主流的生長模式，採用計算機自動控制，系統內置了多種石墨烯的生長參數，用戶只需簡單操作，就可以輕鬆製備出高質量石墨烯，如單疇尺寸高達數毫米的石墨烯大單晶，數十厘米尺寸的石墨烯多晶薄膜，以及13C同位素石墨烯。該系統為科研人員提供大量的研究機會，同時為實現各種科學想法提供了實驗平台。