石墨烯薄膜製備

作者：李雪松、陳遠富、青芳竹編著
叢書名：石墨烯技術前沿叢書
出版日期：2019年6月		書號：978-7-122-33752-8
開本：B5 710×1000　1/16	裝幀：平	版次：1版1次	頁數：234頁

本書根據作者多年的石墨烯薄膜製備經驗和研究成果，並結合國內外石墨烯薄膜製備的最新研究進展編撰而成。本書主要介紹基於化學氣相沉積法的石墨烯薄膜製備技術,首先對石墨烯概念、發展歷程和表征進行概括介紹，接著簡單介紹化學氣相沉積技術，然後系統介紹石墨烯的成核與生長、單晶石墨烯的製備、石墨烯的層數控制，進一步介紹石墨烯薄膜的轉移技術以及面向工業套用的石墨烯薄膜規模化製備技術，最後對石墨烯薄膜現有製備技術進行總結，並對石墨烯薄膜的未來發展進行了展望。
本書對石墨烯薄膜製備技術進行了全面系統的介紹，既方便初學者對該技術快速了解，又能使專業科研與技術人員對該技術有系統深入的認識。希望本書能對石墨烯薄膜製備技術的發展與創新提供啟發與指導。

第1 章　石墨烯簡介/　001

1.1　發展歷程 001

1.2　結構與性質 002

1.3　分類及命名 004

1.4　結構表征與性能測量 005

1.4.1 光學顯微分析 005

1.4.2 拉曼光譜分析 006

1.4.3 電子顯微分析 007

1.4.4 掃描探針顯微分析 008

1.4.5 其他表征技術 008

1.4.6 電學性能測量 008

1.5　石墨烯的套用 010

1.6　製備方法 011

參考文獻 012

第2 章　化學氣相沉積技術/　017

2.1　CVD 的特徵、分類及發展 017

2.1.1 CVD的特徵 017

2.1.2 CVD的分類 018

2.1.3 CVD的發展 020

2.2　CVD 反應原理 021

2.2.1 CVD反應過程 021

2.2.2 CVD反應類型 022

2.2.3 CVD的熱、動力學原理 024

2.3　真空技術基礎 028

2.3.1 真空的概念及分類 028

2.3.2 真空系統抽氣過程定量描述 029

2.3.3 真空系統及真空泵 031

2.3.4 真空測量及真空檢漏 032

2.4　CVD 系統簡介 034

2.4.1 CVD系統的組成 034

2.4.2 常見CVD系統 035

2.5　CVD 反應過程控制 040

2.5.1 CVD反應的主要參數 040

2.5.2 CVD工藝參數及過程控制 041

2.6　CVD 製備石墨烯概述 042

2.6.1 CVD製備石墨烯的發展歷程 042

2.6.2 CVD製備石墨烯的分類 044

參考文獻 045

第3 章　石墨烯的成核與生長/　047

3.1　石墨烯CVD 生長過程 047

石墨烯薄膜製備

相關詞條

熱門詞條