真空鍍膜倉

真空鍍膜倉是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2014年2月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：真空鍍膜倉
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2014年2月20日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 加工工藝實驗設備

技術指標

超高真空倉3X10^-8Pa,真空倉10^-6Pa； 旋轉樣品加熱台最高溫度：800攝氏度 旋轉靶台； 可安裝四塊2英寸靶材。

主要功能

提供高真空和可控氣氛的鍍膜環境。