《目標雷射距離都卜勒成像》是依託西安電子科技大學，由吳振森擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：目標雷射距離都卜勒成像
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：吳振森
- 依託單位：西安電子科技大學
- 批准號：60771038
- 申請代碼：F0114
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2008-01-01 至 2010-12-31
- 支持經費：30（萬元）
中文摘要
本項目根據空間目標攻防對抗的需求，研究空間環境中目標雷射距離－都卜勒成像的關鍵技術。研究運動粗糙目標雷射一維距離像和都卜勒效應，分析目標形狀、表面粗糙度和雷射後向探測方向的影響規律；研究斜向雙程湍流大氣雷射的強度起伏、光束的漂移、展寬和到達角起伏，分析粗糙面和斜程湍流大氣對目標成像的散班效應，以及對目標雷射距離都卜勒成像的影響規律；進行簡單目標雷射距離－都卜勒成像原理性實驗驗證和信號相干監測技術與數據處理方法研究，以及目標微運動特徵的提取研究；建立具有自主智慧財產權的雷射成像和雷射距離-都卜勒成像散射仿真軟體。其研究成果對目標光學特性特徵提取、控制和識別的新原理、新概念和關鍵技術的研究，具有明顯學術價值和重要的戰略意義。
