《界面插層調控磁阻薄膜材料電輸運性能研究》是2018年中國原子能出版社出版的圖書。
基本介紹
- 中文名：界面插層調控磁阻薄膜材料電輸運性能研究
- 作者：丁雷
- 出版社：中國原子能出版社
- 出版時間：2018年8月1日
- 開本：16 開
- ISBN：9787502281847
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
磁阻薄膜材料主要指具有磁電阻效應的材料，在各種磁阻材料中，NiFe具有優異的軟磁性能，是一種套用廣泛的磁性材料。目前國際上研究的焦點集中在NiFe材料超薄情況下如何進一步提高其電輸運性能以適應器件發展的需求。作者近些年來在高靈敏度NiFe磁阻薄膜材料的製備工藝、綜合性能調控、薄膜結構設計思路以及理論研究方面開展了一些研究工作。本書重點介紹了各種不同類型的界面插層材料對NiFe磁阻薄膜材料結構及電輸運性能的影響。本書可供從事磁性薄膜材料的研究學者和學生參考使用。
圖書目錄
第1章 磁電阻薄膜材料簡介
1.1 自旋電子學與磁電阻效應概況
1.2 各向異性磁電阻效應
1.2.1 微觀理論
1.2.2 磁化特性
1.2.3 常用各向異性磁電阻材料
1.3 巨磁電阻效應
1.3.1 多層膜巨磁電阻效應和雙電流模型
1.3.2 自旋閥巨磁電阻效應
1.4 自旋電子的鏡面反射
1.4.1 鏡面反射原理及其在納米氧化層自旋閥中的套用
1.4.2 電子鏡面反射對各向異性磁電阻的作用
第2章 NiFe薄膜材料研究現狀
2.1 成分與厚度對電輸運性能影響研究
2.2 晶粒尺寸與織構對電輸運性能影響研究
2.3 不同種子層對電輸運性能影響研究
2.4 利用界面插層提高電輸運性能研究
第3章 薄膜製備及結構性能表征方法
3.1 薄膜製備
3.1.1 基片清洗過程
3.1.2 薄膜樣品製備
3.1.3 元件製備方法
3.1.4 樣品的真空退火處理
3.2 薄膜結構性能表征方法
3.2.1 標準四探針法
3.2.2 振動樣品磁強計
3.2.3 x射線光電子能譜
3.2.4 x射線衍射
3.2.5 透射電子顯微鏡
第4章 非晶氧化物界面插層研究
4.1 概論
4.2 SiO2界面插層研究
4.2.1 SiO2界面插層對NiFe薄膜電輸運性能影響
4.2.2 SiO2界面插層對NiFe薄膜磁性影響
4.3 Al2O3界面插層研究
4.3.1 Al2O3界面插層對製備態NiFe薄膜結構與性能影響
4.3.2 Al2O3界面插層對退火態NiFe薄膜結構與性能影響
第5章 晶體氧化物界面插層研究
5.1 概論
5.2 MgO晶體氧化物界面插層研究
5.2.1 不同MgO插層位置對NiFe薄膜結構與性能影響
5.2.2 退火對Ta／MgO／NiFe／MgO／Ta薄膜結構與性能影響
5.3 ZnO晶體氧化物界面插層研究
5.3.1 ZnO界面插層對NiFe薄膜結構與電輸運性能影響
5.3.2 高溫退火對Ta／NiFe／ZnO／Ta薄膜磁性影響
第6章 具有強自旋軌道耦合的貴金屬界面插層研究
6.1 概論
6.2 貴金屬Au界面插層研究
6.2.1 Au界面插層對NiFe薄膜結構與性能影響
6.2.2 Ta／Au／NiFe／Au／Ta薄膜微結構研究
6.3 貴金屬Pt界面插層研究
6.3.1 Pt界面插層對Ta／NiFe／Ta薄膜結構與性能影響
6.3.2 Pt界面插層對NiFeCr／NiFe／Ta薄膜結構與性能影響
第7章 其它類型界面插層材料研究
7.1 概論
7.2 磁性金屬氧化物CoFeOx界面插層研究
7.2.1 單層CoFeOx對NiFe薄膜結構號性能影響
7.2.2 雙層CoFeOx對NiFe薄膜結構與性能影響
7.3 非磁AlN界面插層研究
7.3.1 AlN界面插層對NiFe薄膜電輸運性能影響
7.3.2 AlN界面插層對NiFe薄膜微結構影響
參考文獻
