用於表征樣本中的顆粒的全息方法

用於表征樣本中的顆粒的全息方法

《用於表征樣本中的顆粒的全息方法》是伊普拉森澤股份有限公司於2017年3月22日申請的專利,該專利公布號為CN109074025B,專利公布日為2021年6月8日,發明人是采迪瑞克·阿利耶、阿內斯·阿里謝里夫、皮埃爾·布朗丹、傑弗里·埃斯特班、萊昂內爾·赫維、達米安·伊賽貝。

基本介紹

  • 中文名:用於表征樣本中的顆粒的全息方法 
  • 授權公告號:CN109074025B
  • 授權公告日:2021年6月8日
  • 申請號:2017800198635
  • 申請日:2017.03.22
  • 專利權人:原子能和替代能源委員會; 奧里巴ABX股份有限公司; 伊普拉森澤股份有限公司
  • 地址:法國巴黎
  • 發明人:采迪瑞克·阿利耶; 阿內斯·阿里謝里夫; 皮埃爾·布朗丹; 傑弗里·埃斯特班; 萊昂內爾·赫維; 達米安·伊賽貝
  • Int. Cl.:G03H1/04(2006.01)I; G03H1/08(2006.01)I; G01N21/45(2006.01)I; G01N15/14(2006.01)I
  • 專利代理機構:北京柏杉松智慧財產權代理事務所(普通合夥)11413
  • 代理人:侯麗英; 劉繼富
  • 優先權:1652501 2016.03.23 FR
  • PCT進入國家階段日:2018.09.21
  • PCT申請數據:PCT/FR2017/050672 2017.03.22
  • PCT公布數據:WO2017/178723 FR 2017.10.19
專利摘要
本發明涉及一種用於全息表征樣本(10)中包含的顆粒(10b)的方法,該方法基於當樣本被光源(11)照射時,由圖像感測器(16)獲得的樣本的圖像(Io)或全息圖。全息圖是全息重建的主題,使得獲得複數圖像,稱為參考複數圖像(Aref),表示在重建平面中由樣本透射的光波。將全息傳播運算元套用於所述參考複數圖像,使得獲得多個所謂的二次複數圖像(Aref,z),從中確定描述由樣本沿著所述光波的傳播軸(z)透射的光波的光學特徵的變化的分布圖。

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