產業專利分析報告（第62冊）——全息技術

《產業專利分析報告（第62冊）——全息技術》是2018年7月智慧財產權出版社出版的圖書，作者是國家知識產權局學術委員會。

基本介紹

• 書名：產業專利分析報告（第62冊）——全息技術
• 作者：國家知識產權局學術委員會
• 出版社：智慧財產權出版社
• 出版時間：2018年7月
• 頁數：300 頁
• 定價：75 元
• 開本：16 開
• 裝幀：平裝
• ISBN：9787513056632

內容簡介

　　本書是全息技術行業的專利分析報告。報告從該行業的專利（國內、國外）申請、授權、申請人的已有專利狀態、其他先進國家的專利狀況、同領域領先企業的專利壁壘等方面入手，充分結合相關數據，展開分析，並得出分析結果。本書是了解該行業技術發展現狀並預測未來走向，幫助企業做好專利預警的必備工具書。

作者簡介

　　國家知識產權局學術委員會，由國家知識產權局相關審查業務部成員及相關行業協會成員組成。每個課題組有20-30個人組成，分別進行數據收集、整理、分析、製圖、審核、統稿。

圖書目錄

第1章緒論

1.1研究背景

1.2技術分解

1.3研究方法

1.3.1資料庫選用

1.3.2數據處理方式

1.3.3數據範圍

1.3.4數據質量評估

1.4相關事項和約定

第2章全息技術全球專利申請分析

2.1全息存儲

2.1.1全球專利申請

2.1.2申請趨勢分析

2.1.3申請區域分布分析

2.1.4申請人分析

2.2全息檢測

2.2.1全球專利申請分析

2.2.2專利布局國家或地區分析

2.2.3申請人分析

2.2.4申請類型、法律狀態和技術構成分析

2.3全息顯示

2.3.1全球專利申請

2.3.2申請量趨勢分析

2.3.3主要申請人

2.3.4全球被引證數專利分析

2.4全息光學元件

2.4.1全球專利態勢分析

2.4.2日本專利態勢分析

2.5全息防偽

2.5.1專利申請趨勢分析

2.5.2首次申請國家或地區分析

2.5.3申請人分析

2.5.4申請類型及法律狀態分析

2.6小結

第3章全息技術中國專利申請分析

3.1全息存儲

3.1.1專利申請趨勢分析

3.1.2申請人分析

3.1.3申請類型和法律狀態分析

3.1.4中國國內申請人分析

3.2全息檢測

3.2.1專利申請趨勢分析

3.2.2區域申請分析

3.2.3國內和國外申請人分析

3.2.4申請類型和法律狀態分析

3.2.5中國專利續費/放棄趨勢

3.3全息顯示

3.3.1專利申請趨勢分析

3.3.2主要申請人中國申請法律狀態

3.4全息光學元件

3.4.1發展趨勢分析

3.4.2專利類型

3.4.3法律狀態

3.4.4申請人區域分析

3.4.5主要申請人分析

3.4.6主要發明人分析

3.5全息防偽

3.5.1專利申請分析

3.5.2國內省市專利分析

3.5.3申請人分析

3.5.4申請類型及法律狀態分析

3.5.5技術分支分析

3.6小結

第4章全息存儲重點技術分析

4.1概況

4.1.1技術背景

4.1.2全息存儲概念和產業概況

4.1.3全息存儲技術發展歷程

4.2基礎專利技術

4.2.1離軸光路

4.2.2同軸光路

4.2.3微全息技術

4.3重點專利介紹

4.3.1光源

4.3.2記錄結構

4.3.3中間光學元件

4.3.4伺服控制

4.3.5存儲材料

4.3.6數據處理

4.3.7複製方法

4.3.8盒體結構

4.4ECMA標準

4.5小結

第5章全息檢測重點技術分析

5.1技術概況

5.2全息顯微

5.2.1總體分析

5.2.2技術發展路線

5.2.3技術功效分析

5.2.4早期基礎性專利分析

5.2.5重點專利

5.3小結

第6章全息顯示重點技術分析

6.1“全息”概念的誤用-舞台表演、AR/MR、其他

6.2三維全息顯示技術

6.3全息顯示的演進

6.4重點專利介紹

6.4.1計算全息

6.4.2光源

6.4.3光路設計

6.4.4追蹤元件設計

6.4.5SLM設計

6.4.6針對特殊套用設計

6.5小結

第7章全息光學元件重點技術分析

7.1技術概況

7.1.1全息光學元件與傳統光學元件的區別和聯繫

7.1.2全息光學元件的主要分類

7.1.3全息光學元件的理論發展脈絡

7.1.4全息光學元件的製作材料

7.2中國專利技術分析

7.2.1功效分析

7.2.2中國重點專利

7.3日本專利技術分析

7.3.1技術分支分析

7.3.2日本重點專利

7.4全球重點專利分析

7.5小結

第8章全息防偽重點技術分析

8.1概念

8.2技術發展

8.2.1第一代雷射模壓全息圖像防偽技術

8.2.2第二代改進型雷射全息圖像防偽技術

8.2.3第三代加密全息圖像防偽技術

8.2.4第四代雷射全息防偽技術

8.3重點專利

8.3.1紙幣或證件防偽

8.3.2防偽紙或防偽標識

8.3.3防偽設備及相關技術改進

8.3.4微全息圖的結構

8.4小結

第9章主要申請人技術分析

9.1全息存儲

9.1.1INPHASE

9.1.2OPTWARE

9.1.3通用電氣

9.1.4索尼

9.1.5日立

9.1.6青島泰谷光電工程

9.2全息顯示

9.2.1SEEREAL

9.2.2LG

9.2.3三星

9.2.4京東方

9.2.5小結

9.3全息防偽

9.3.1中國印鈔造幣總公司

9.3.2泰寶集團

9.3.3湖北聯合天誠

9.3.4大日本印刷

9.3.5凸版印刷

9.3.6德國捷德

第10章主要申請人的專利申請和運營策略

10.1全息存儲

10.1.1INPHASE

10.1.2OPTWARE

10.1.3通用電氣

10.1.4索尼

10.1.5日立

10.2全息防偽

10.2.1專利質押分析

10.2.2專利許可分析

第11章結論與建議

附錄申請人名稱約定表

圖索引

表索引