光學薄膜是一門綜合性非常強的工程技術科學。它的理論基礎是電磁場理論和麥克斯韋方程，涉及光在傳播過程中，通過分層介質的反射、透射和偏振特性等。本書第一篇主要介紹光學薄膜特徵的理論計算、光學多層膜的設計理論和技術，由唐晉發教授編寫。第二篇主人介紹光一膜的製造技術，包括以物理氣相澱積技術為代表的成膜技術，涵蓋真空設備、薄膜材料、製備參數控制技術、薄膜厚度監控技術、膜厚均勻性以及製備參數對薄膜微觀結構影響等。第三篇主要介紹薄膜光學特性與光學常數的檢測技術、薄膜機械性能的評價技術等。由於光學薄膜技術又是一門交叉性很強的學科，涉及到光電技術、計算機、真空技術、材料科學、自動控制技術等領域，為了滿足部分來自不同領域的光學薄膜工作者學習本書的需要，增加了一個附錄，主要介紹幾個數學物理基礎理論。
基本介紹
- 書名：現代光學薄膜技術
- 作者：唐晉發 顧培夫 劉旭 李海峰
- ISBN：9787308049771
- 出版社：浙江大學出版社
- 出版時間：2007-03-02
- 裝幀：平裝
- 開本：16開
目錄
第一篇 光學多層膜設計
第1章 光學薄膜特性的理論計算
1.1 單色平面電磁波
1.2 平面電磁波在單一界布的反射和折射
1.3 光學薄膜特性的理論計算
1.4 光學多層膜內的電場強度分布
習題
第2章 光學薄膜的設計理論
2.1 矢量作圖法
2.2 有效界面法
2.3 對稱膜系的等效層
2.4 導納圖解技術
習題
第3章 光學薄膜系統的設計
3.1 減反射膜
3.2 分束鏡
3.3 高反射膜
3.4 干涉截止濾光片
3.5 帶通濾光片
3.6 特殊膜系
習題
參考文獻
第二篇 薄膜製備技術和微結構特性
第4章 薄膜製備技術
4.1 真空澱積工藝
4.2 光學薄膜材料
4.3 薄膜厚度監控藝術
4.4 膜層厚度的均勻性
習題
參考文獻
第5章 製備條件寺薄膜微觀結構和成分的影響
5.1 薄膜的形成過程
5.2 薄膜的微觀結構
5.3 薄膜的成分
5.4 微觀結構和成分對薄膜特性的影響
5.5 薄膜微觀結構和改善
習題
參考文獻
第三篇 光學薄膜檢測技術
第6章 薄膜透射率和反射率測量
6.1 光譜分析測試系統的基本原理
6.2 薄膜反射率的測試
6.3 薄膜反射率的測量
6.4 利用雷射諧振腔測量雷射高反射鏡的反射率與損耗
6.5 總結
習題
參考文獻
第7章 薄膜的吸收和散射測量
7.1 雷射量熱計基本原理
7.2 光聲、光熱偏轉法測量薄膜吸收
7.3 薄膜散射的標量理論和總積分散射測量
7.4 散射光的矢量理論和角分布測量
7.5 諧振腔衰盪薄膜損耗檢測法
7.6 薄膜導波傳播衰減係數法
7.7 總結
習題
參考文獻
第8章 薄膜光學常數的測量
8.1 從透射、反射光譜確定薄膜的光學常數
8.2 其他薄膜的光學常數測試方法
8.3 薄膜波導法
8.4 光學薄膜厚度的測試
8.5 總結
習題
參考文獻
第9章 薄膜非光學特性的檢測技術
9.1 薄膜的力學特性檢測技術
9.2 薄膜器件的環境試驗
9.3 薄膜的微結構與化學成分檢測
9.4 總結
習題
參考文獻
附錄
附錄A 複數與複數運算
A.1 複數的概念
A.2 複數的三角函式及指數表示方法
A.3 複數在物理中的運用
附錄B 矩陳及矩陳運算
B.1 矩陳的定義
B.2 矩陳運算
附錄C 光的電磁理論基礎
C.1 振動與波
C.2 電磁波
C.3 麥克斯韋方程
C.4 平面電磁波
C.5 平面電磁波性質
C.6 電磁波在介質表面的反射和折射
附錄D 光的干涉
D.1 波的疊加原理
D.2 楊氏干涉
D.3 平板的表面干涉
D.4 光的空間相干性和時間相干性
附錄E 光的偏振
E.1 自然光和偏振光
E.2 偏振光與Jones矩陳
E.3 偏振光的獲得
E.4 偏振光的檢驗
