牛新環，河北工業大學電子信息工程學院微電子技術與材料研究所/電子科學技術系教授，碩士生導師，天津市科技特派員。
基本介紹
- 中文名：牛新環
- 畢業院校：河北工業大學
- 學位/學歷：博士
- 職業：教師
- 專業方向：微電子技術與材料；信息功能材料表面超精密加工及性能研究
- 職務：天津市科技特派員
- 任職院校：河北工業大學電子信息工程學院
個人經歷,研究方向,主講課程,科研項目,學術成果,榮譽獎項,
個人經歷
2004/09 –， 河北工業大學，信息工程學院微電子所，博士，講師/副教授/教授
2001/09 – 2004/06，河北工業大學，材料學院信息功能材料所，碩士
1994/09 – 1998/06，河北工業大學，材料科學與工程系，學士
研究方向
主講課程
發明創造工程學（本科）；半導體化學（碩士）。
科研項目
1. 國家科技02重大專項項目，鹼性拋光液CMP工藝以及相關材料、工藝與設備關係的研究，2009/01-2012/12，結題，第二。
2. 國家自然科學重點安全基金，W-Mo/Mg-Al合金的化學機械磨蝕機理及方法研究，2007/01-2010/6，結題，第三。
3. 天津市自然科學基金，GLSI 28納米低壓低磨料弱鹼性CMP機理及關鍵技術研究，2016/04-2018/03， 在研，主持。
4. 國家科技02重大專項，20-14nm積體電路鹼性拋光液與清洗液的研發，2016/01-2019/12，在研，第四。
5. 河北省自然科學基金，LED用藍寶石襯底材料化學機械拋光機理及技術研究，2013/01-2015/12，結題，主持。
6. 天津市科技特派員項目，4英寸LED藍寶石襯底拋光液產業化套用示範。2016/01-2016/12，在研，第二。
7. 天津市自然科學重點基金，積體電路Cu/low-k互連薄膜機械可靠性研究，2010/03-2013/3，結題、第二，本單位主持。
8. 河北省人力資源和社會保障廳,百人計畫，化合物半導體氮化鎵新材料的CMP及清洗技術，2014/01-2016/12，在研，第三。
9. 河北省政府，河北省微電子超精密加工材料與技術協同創新中心， 2016/01-2019/12，在研，骨幹。
10. 河北省教育廳青年基金，光電器件用藍寶石襯底化學機械拋光質量控制技術研究，2011/07-2014/12，結題，主持
11. 河北省政府，河北省微電子技術與材料巨人計畫創新團隊， 2015/01-2017/12，在研，骨幹。
12. 河北省自然科學基金，鍺矽合金單晶的熱電轉換性能研究，2004.1-2008.1，結題。
13. 河北省科技計畫項目，矽通孔工藝的鹼性平坦化材料與工藝研究， 第二
14. 企業委託課題，精密光學加工與清洗技術開發，2014.12，主持
15. 企業委託課題，藍寶石加工用CMP工藝技術的開發，2015.5，主持
16. 企業委託課題，鋁合金表面精密加工工藝開發，2015.12，主持
學術成果
論文
1. FTIR Spectroscopy of high concentration Ge-doped Czochralski-Si，J.Crystal Growth 2004 第一作者 （SCI）
2. Distribution of Ge in High Concentration Ge-Doped Czochralski-Si Crystal，J.Crystal Growth 2004 第一作者 （SCI）
3. Method of surface treatment on sapphire substrate, Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2006, 16:732，第一作者 （SCI）
4. Dislocation of Cz-sapphire substrate for GaN growth by chemical etching method, Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2006, 16:187，第一作者 （SCI）
5. Removal rate and surface quality of the GLSI silicon substrate during the CMP process, Microelectronic Engineering, 2017, 168:76-81第二/通訊作者 （SCI）
6. Effect of a novel chelating agent on defect removal during post-CMP cleaning，Applied Surface Science，2016，378：239-244，第二/通訊作者 （SCI）
7. Bulk single crystal growth of SiGe by PMCZ method，Rare Metals 2003 第二作者 （SCI）
8. 非摻半絕緣砷化鎵中的雜質與微缺陷，稀有金屬材料與工程，2006，35（10）: 1544-1547，第二作者SCI
9. Infrared measurement of Ge concentration in CZ–Si，J.Crystal Growth 2005 第三作者 （SCI）
10.Effect of surfactant on removal of particle contamination on Si wafers in ULSI Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2006，16, s195-198，第三作者 （SCI）
11.Slurry and processing technique of CLBO crystal，Transactions of Nonferrous Metals Society of China, 2006, 16：s692-695，第三作者 （SCI）
12.pH值對ULSI矽襯底拋光速率的影響, 功能材料, 2006，37：336，第一作者 （EI）
13.High precision finishing process for sapphire substrate surface，半導體學報，2007，25：48-51，第一作者 （EI）
14.Influence of temperature on chemical mechanical polishing quality of sapphire substrate, Semiconductor Technology, ISTC2007, p 337-342，第一作者 （EI）
15.Influence of surfactant on Si{111} etched surface，ICSICT2008，p1332，第一作者 （EI）
16.Study on CMP Mechanism and Technology of Sapphire Substrate for Photo-conducting Device，ISTC2009，p435,第一作者 （EI）
17.High Precision Finishing Technique of Sapphire Substrate Surface for Photoconducting Device，Materials Science Forum，2011，663-665：80-83，第一作者 （EI）
18.Growth and fundamental properties of SiGe single crystal，Advanced Materials Research，2010，129-131：139-142，第一作者 （EI）
19.Ultra precision Machining Technique of InSb Substrate Material for Detector Devices，Advanced Materials Research，2011，183-185，1137-1140，第一作者 （EI）
20.Influence of Nano abrasive on Chemical Mechanical ultra- precision machining of Sapphire Substrate Surfaces，Key Engineering Materials，2014，609-610，第一作者 （EI）
21.Achievement of non-selectivity barrier slurry by adding H3PO4 and its application in patterned wafers CMP，ICSICT，2012，第一作者 （EI）
22.Study on chemical mechanical ultra precision process technology of Aluminum Interconnected Line for ULSI，EMEIT 2012，p 1487-1490，第一作者 （EI）
23.摻鍺CZSi中與鍺有關的紅外光譜特性，人工晶體學報，2005，第二作者（EI）
24.Application of surfactant in Si CMP processing, ISTC2009,p547, 第二作者（EI）
25.Study on the lapping slurry for ULSI silicon substrate preparation, ICSICT-2006,p 487-488，第二作者（EI）
26.Control Action of Temperature on ULSI Silicon Substrate CMP Removal Rate and Kinetics Process，半導體學報，2007,28,62-66, 第二作者（EI）
27.鈮酸鋰CMP速率的影響因素分析，半導體學報，2007,28, 574-578, 第二作者（EI）
28.Analyses of CMP Mechanism of NiP Substrate of Computer Hard-disk with Alkali Slurry，Advanced Materials Research，2010，129-131：580-583，第二作者（EI）
29.Effect of FA/O chelating agent on copper ion removing on silicon surface，Advanced Materials Research，2011，183-185，2284-2287，第二作者（EI）
30.超精密加工中銅表面CMP 後殘餘金屬氧化物的去除,稀有金屬，2017，41（2）:146-152，第二作者（EI）
另有第一作者及指導學生髮表於J. Crystal Growth、Materials Science and Engineering B、半導體學報、功能材料、稀有金屬、半導體技術等 SCI、EI、核心期刊檢索論文90餘篇。
專利
- 發明專利，極大規模積體電路鎢插塞CMP後表面潔淨方法，2012.7，第二（執筆）
- 發明專利，藍寶石襯底材料拋光後表面潔淨方法，2012.9，第二（執筆）
- 發明專利，藍寶石襯底材料CMP拋光液的製備方法，2013.2，第二（執筆）
- 發明專利，磷酸氧鈦鉀晶體CMP拋光液的製備方法，2013.3，第二（執筆）
- 發明專利，鎂鋁合金材料表面化學機械拋光液的製備方法，2013.4，第三
- 實用新型，一種溫控吹風機，2015.5，第二（指導教師）
- 實用新型，可變數程比重計，2015.5，第二 （指導教師）
- 實用新型，帶有相關雙採樣功能的高增益光電探測器單元讀出電路，2013.6，第二
- 實用新型，套用於寬頻電路設計的差分雙峰值檢測電路，2013.6，第三
- 發明專利，鍺晶體化學機械拋光的拋光液及使用方法，2016.6.28，第一
- 發明專利，藍寶石襯底材料的複合鹼拋光液及其循環使用方法，2014.12，第一
- 發明專利，藍寶石襯底材料的複合磨料拋光液及其循環使用方法，2014.12，第一
- 發明專利，陀螺光學元件石英襯底材料CMP拋光表面粗糙度的控制方法，2014.12，第一
- 美國發明專利，METHOD FOR REMOVING CONTAMINANTS FROM SILICON WAFER SURFACE，2009.8，第二
- 美國發明專利，SLURRY FOR CHEMICAL-MECHANICAL PLANARIZATION OF SAPPHIRE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME， 2011.2，第四
- 發明專利，藍寶石襯底材料表面粗糙度的控制方法，2009.11，第二
榮譽獎項
1. 2012年度國家02重大專項“極大規模積體電路平坦化工藝與材料”優秀團隊骨幹成員。
3. 2015年河北省“微電子超精密了加工材料與技術”協同創新中心骨幹成員。
4. 2013、2015年校級“工會積極分子”。
5. 2016年河北工業大學“優秀共產黨員”。
6. 2016年“天津市教育系統優秀共產黨員”。
7. 2016年河北工業大學“五比雙創示範崗”。
8. 2016年度“天津市教育系統五比雙創示範崗”。
獎項
1.極大規模積體電路平坦化工藝與材料，天津市人民政府，天津市科學技術發明獎，三等獎，2015，第五。
2. 多羥多胺螯合劑在ULSI化學機械平坦化中的套用，天津市政府，天津市科學技術發明獎，三等獎，2013，第二。
3. 電子器件襯底材料表面化學機械超精密加工新技術，中國電子學會，發明，三等獎，2009。第二。
4. 固體表面高精密加工技術及專用納米材料，天津市政府，天津市科學技術發明獎，二等獎，2006，第五。
5. 積體電路及多層布線的平坦化，2014.10 第十四屆全國多媒體大賽獲河北賽區高教工二等獎，第一。
6. 積體電路製造工藝之化學機械平坦化，2016.9，河北省多媒體大賽高教工一等獎，第一。
7．2012、2013、2015年度研究生課堂教學質量優秀獎。
