熱陰極高頻濺射(hot cathode high- frequency sputtering)是2013年公布的機械工程名詞。
基本介紹
- 中文名:熱陰極高頻濺射
- 外文名:hot cathode high- frequency sputtering
- 所屬學科:機械工程
- 公布時間:2013年
定義,出處,
定義
藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電產生的離子在靶表面負電位的作用下加速而轟擊靶的濺射。
出處
《機械工程名詞 第五分冊》第一版。
熱陰極高頻濺射(hot cathode high- frequency sputtering)是2013年公布的機械工程名詞。
熱陰極高頻濺射(hot cathode high- frequency sputtering)是2013年公布的機械工程名詞。定義藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電產生的離子在靶表面負電位的作用下加速而轟擊靶...
濺射工藝圖如圖1所示,濺射鍍膜最初出現的是簡單的直流二極濺射,它的優點是裝置簡單,但是直流二極濺射沉積速率低;為了保持自持放電,不能在低氣壓(<0.1 Pa)下進行;不能濺射絕緣材料等缺點限制了其套用。在直流二極濺射裝置中增加一個熱陰極和輔助陽極,就構成直流三極濺射。增加的熱陰極和輔助陽極產生的熱...
又由於是低能濺射,故可在熔點低的有機物上沉積薄膜。另外,陽極電壓、陰極發射電流、磁場、靶電壓均可獨立改變而得到不同狀態的電漿,從而滿足了多用途套用。這種設備的缺點是難以獲得大面積均勻薄膜。當在氧氣中進行反應濺射時,為避免熱陰極短壽命,應採用高頻激勵等放電形式。= 優點 等離子濺射的優點是:(1)...
這時離子源結構更加簡單,稱為冷陰極離子源。對於功率較大的離子源,陰極被放電所加熱,達到電子熱發射溫度,被稱為自熱陰極離子源。為產生非氣態元素的離子,將該元素饋入離子源的方法有多種。簡單的方法是使用氣體化合物,也可導入該元素的蒸氣。某些固體物質還可鍍在陰極表面或陽極腔壁上,靠放電中的濺射作用將...