熱陰極直流濺射(三極型濺射)hotcathodedirectcurrentsputtering:藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。
熱陰極直流濺射(三極型濺射)hotcathodedirectcurrentsputtering:藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的電壓加速...
在直流二極濺射裝置中增加一個熱陰極和輔助陽極,就構成直流三極濺射。增加的熱陰極和輔助陽極產生的熱電子增強了濺射氣體原子的電離,這樣使濺射即使在低氣壓下也能...
為了解決陰極濺射的缺陷,人們在20世紀70年代開發出了直流磁控濺射技術,它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的弱點,因而獲得了迅速發展和廣泛套用。...
在直流二極濺射裝置中增加一個熱陰極和輔助陽極,就構成直流三極濺射。增加的熱陰極和輔助陽極產生的熱電子增強了濺射氣體原子的電離,這樣使濺射即使在低氣壓下也能...
利用電漿進行濺射的工藝稱為等離子濺射。 等離子濺射也稱為四極濺射,它是在陰極濺射的基礎上增加一個熱燈絲陰極和一個輔助陰極來進行濺射的。...
熱陰極直流濺射(三極型濺射)是藉助於熱陰極和陽極獲得非自持氣體放電,氣體放電所產生的離子,由在陽極和陰極(靶)之間所施加的電壓加速而轟擊靶的濺射。...