熔鹽溶劑：實際生產中，用溶液生長法生長一些能從熔體中生長的晶體材料時所需的溶劑。
基本介紹
- 中文名：熔鹽溶劑
- 外文名：Molten salt solvent
- 屬性：實驗材料 名稱
簡介,要求,
簡介
實際生產中，一些能從熔體中生長的晶體材料有時也用溶液生長法生長，如層狀砷化鑲就是從金屬溶液中生長的。 溶劑溶液生長方法生長晶體時最重要的是選擇合適的溶劑。溶劑的選擇對溶液生長晶體所需設備、套用範圍、存在問題和解決途徑起著重要的作用。
非同成分熔融的材料、熔化時有高蒸氣壓或高溫下分解的材料、因多形性相變而產生嚴重應力或開裂的材料和某些高溫耐火材料。 特點單晶在藉助於液一固平衡生長的過程中，由於溶質濃度的改變將導致過飽和溫度的變化，通常要降低溫度來維持過飽和。此時若溶質和溶劑沒有完全的固態溶解度，在相圖上處於低共熔點或其他相的成分區域 時，榕質將不再單獨結晶，這是液相生長的一個缺點。 此外，由於溶液生長是在雜質條件下進行的，溶液中的 溶劑和雜質都有可能成為晶體中的雜質，為了避免俘獲溶劑包裹物，其生長速度必須比熔體生長時慢。由於晶體溶液生長是在相對較低的溫度下進行的，甚至是在室溫附近進行的，所生長的晶體的熱應力、各種點缺陷和位錯缺陷的密度都會降低，因此在合適的生長條件和慢生長速度下，也可利用溶液生長方法獲得高質量的晶體材料。
要求
通常對溶劑的要求是:①必須具有正溫度係數的高溶質溶解度， 所需晶體是溶液過飽和後唯一穩定的固相;②必須具有低揮發性、低粘滯性，與所用容器反應弱;③能用較小的經濟投入獲得高純的溶劑。只有滿足上述要求後，才 能對溶液的過飽和度進行精確的控制，並比較方便地保 持溶液中溶質濃度和溫度的均一性，為生長高質量的晶 體創造必要的條件。 種類晶體溶液生長技術通常按生長過程中溫場是否改變分為等溫生長法和非等溫生長法。等溫生長法又 稱恆溫生長法，可細分為蒸發溶劑法或溶劑濃度填充 法、溫差法和化學(或電化學)反應法。蒸發溶劑法可用 於水溶液和熔鹽生長；溫差法可用於水熱、水溶液和熔鹽生長；化學或電化學反應法則因難於控制而較少使 用。等溫生長法的優點是，任何與溫度有關並影響晶體性質的因素都能得到較好的控制，特別是當所需晶相在相圖上只在很小的溫度範圍內穩定，或者雜質組分的分凝係數與溫度有關時，利用此方法可得到比較均勻的晶體。非等溫生長法又稱變化溫度生長法。可細分為緩慢冷卻法和溫度梯度區域熔化法。前者可用於水溶液，液 態金屬溶劑和熔鹽生長；溫度梯度區域熔化法可用於熔鹽生長。
