無浸潤層的氮化銦鎵量子點生長機理和物性研究

《無浸潤層的氮化銦鎵量子點生長機理和物性研究》是依託清華大學,由汪萊擔任項目負責人的青年科學基金項目。

基本介紹

  • 中文名:無浸潤層的氮化銦鎵量子點生長機理和物性研究
  • 依託單位:清華大學
  • 項目負責人:汪萊
  • 項目類別:青年科學基金項目
項目摘要,結題摘要,

項目摘要

InGaN量子點材料在能源、信息等領域具有很重要的套用價值,是氮化物材料的重要發展方向,也是目前國內外半導體光電材料研究的熱點。目前,InGaN量子點材料主要依靠S-K模式進行自組裝生長,這種方式得到的量子點材料含有浸潤層結構。浸潤層和量子點的耦合使量子點無法表現出純粹的零維系統特性,限制了量子點器件的性能。本項目擬利用金屬有機化學氣相沉積和分子束外延兩種技術,採用基於In、Ga原子表面自遷移的方案,生長無浸潤層的InGaN量子點材料,並對其材料特性和發光特性進行研究。通過本研究擬解決InGaN量子點材料生長中的應力釋放機理和控制,以及無浸潤層InGaN量子點材料中的載流子輸運和複合機理等關鍵科學問題,實現對不同In組分和量子點密度的無浸潤層InGaN量子點材料的可控生長,為高性能量子點光電器件的研製奠定基礎。

結題摘要

經過三年的研究,本課題在InGaN量子點材料生長方法、生長機理、發光物性評測和器件套用等方面取得了一系列的進展,製備出形狀尺寸合適、密度和發光波長可控的InGaN量子點材料並實現了電致發光。發表學術論文20篇,其中SCI期刊論文17篇。申請發明專利9項,授權4項,課題負責人獲得了2011年國家科技進步二等獎,圓滿完成預期研究任務。主要學術成果包括: (1) 闡明了GaN上外延InGaN的應力釋放機制,計算了InGaN的臨界厚度,從理論上指明了製備InGaN量子點面臨的挑戰。 (2) 發展了交替通斷III族源和V族源的方法,製備了發光波長為364-383 nm的低In組分(In組分約4%)InGaN量子點,光學特性表明其不含浸潤層。 (3) 利用生長中斷方法製備出綠光、紅光高In組分InGaN量子點,突破了多層量子點生長的關鍵技術,實現了以多層InGaN量子點為有源區的綠光和紅光LED電致發光。LED的波長隨電流的變化量和同波段半極性面量子阱LED的相當,展示了量子點減小應力抑制極化效應的潛力。

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