濕式製程化學台

濕式製程化學台

Wet Station

套用於半導體清洗方面的設備，濕式製程化學台產於美國。濕式製程化學台有標準型和更優的，標準型濕式製程化學台使用於一般要求，更好的濕式製程化學台具有優良性能。是一種靈活，安全和實惠的研發工具，濕蝕刻清洗設備EDC 系列常被套用在以溶劑和水為基礎的處理過程：蝕刻-清洗-乾燥，開發-沖洗-乾燥，以及利用溶劑和水的清洗。其旋轉塗敷機部分，具有多種板載滴膠閥的零孔隙度特富龍流體路徑等特點，乾淨的ECTFE圓頂蓋使用戶能夠實時觀察過程的安全運行。

EDC 系統具有可程式閥，它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻，開發和清洗套用的要求重複進行，如沖洗（通常是去離子水或溶劑），然後乾燥（通常是氮氣）等最後的處理步驟。蝕刻/顯影/清洗全套系統採用此序貫閥門技術的晶圓片和管道在完全乾燥的環境中開通和關閉處理過程。隔離和獨立的給水器可處在靜態的位置還可以蓋內調節。