基本介紹
- 中文名:滿衛東
- 國籍:中國
- 出生日期:1970年11月
- 職業:教授
- 畢業院校:合肥工業大學、武漢工程大學、中國科學院電漿物理研究所
- 主要成就:主持和參與國家、省科研項目10餘項,發明專利1項
個人履歷,主要成就,主要教學、科研項目,發表的主要論文,授權發明專利,
個人履歷
1992年畢業於合肥工業大學化工系,獲學士學位;2002年2月畢業於武漢化工學院(現武漢工程大學)獲碩士學位;2006年7月畢業於中國科學院電漿物理研究所獲博士學位。2010年獲得教授職稱,武漢工程大學碩士生導師。現任材料物理專業教研室主任。
主要成就
主要從事CVD金剛石膜的製備與加工,微波能產業化套用研究、微波電漿工業套用,功能薄膜PVD、CVD設備與工藝的研發,材料表面塗覆與表面改性等方面的研究工作;目前的研究主要集中在單晶鑽石外延產業化生產的研究,大功率微波CVD金剛石膜沉積設備的研發等方面。對獲取國外先進的專業技術信息頗有研究。先後主持和參與國家、省自然科學基金等縱橫向科研項目10餘項。科研進賬212萬。作為第一作者或通訊作者在國內外核心刊物上發表研究論文60餘篇,其中SCI:17篇,EI:12篇。獲國家發明專利1項。
主要教學、科研項目
(1)電漿輔助固體接觸法圖形化CVD金剛石膜的研究(Q20081505),2008-2010,湖北省教育廳科研計畫項目
(2)廢水處理用高比表面導電金剛石膜電極的製備研究(2008CDB255),2008-2010,湖北省自然科學基金
(3)聲表面波用金剛石/矽基底的研製,2009-2011,鄭州大學
(4)適應低碳經濟發展模式的材料物理專業培養方式的探索(2010235),2011-2012,湖北省教育廳重點教研項目
發表的主要論文
[1]Man Weidong, Weng Jun, et al., A Novel Method of Fabricating Large –crystal, well-facet Diamond through MPCVD, Plasma Science and Technology, 2009, 11(6):688-692
[2]滿衛東,翁俊,等,MPCVD法在基片邊緣生長大顆粒金剛石的研究,人工晶體學報,2011,40(1):53-59
[3]滿衛東,謝鵬,等,微波電漿同質外延修復金剛石的研究,人工晶體學報,2008,37(5):1157-1161.
[4]滿衛東,孫蕾,等,CVD金剛石膜表面圖形化加工技術的研究,微細加工技術,2008,101(3):25-29
[5] Man Weidong, Wang Jianhua, et al., Planarizing CVD diamond Films by using hydrogen plasma etching enhanced carbon diffusion process, Diamond and Related Materials, 2007, 6(8):1455-1458
授權發明專利
1.一種金剛石表面圖形化方法,CN200710053016[1].9,發明人:滿衛東,汪建華