清華大學天津電子信息研究院高端光電子晶片創新中心

清華大學天津電子信息研究院高端光電子晶片創新中心在面向支持天津電子院項目孵化的同時，面向社會開放，提供納米尺度下光電子晶片製備工藝和測試分析的解決方案，以提升我國光電子晶片的研發水平和產業化進程。

基本介紹

• 中文名：清華大學天津電子信息研究院高端光電子晶片創新中心
• 主管部門：清華大學天津電子信息研究院

研究方向

高端光電子晶片

發展歷史

清華大學天津電子信息研究院高端光電子晶片創新中心是清華大學天津電子信息研究院三大平台之一，由天津華慧芯科技集團有限公司全面負責運營。中心位於啟發大廈一層超淨實驗室，面積約1200㎡，其中百級黃光區100㎡。中心擁有完備的光電子器件研發設備，支持III-V族半導體、矽基半導體、二維材料、柔性材料、金屬材料等光電子晶片的研發，並具有多個納米尺度的特色工藝模組和先進表征模組；配套的測試實驗室提供國際領先的晶片測試分析技術。

科研條件

清華大學天津電子信息研究院高端光電子晶片創新中心設備總體規劃超過2億元。引進世界最先進的電子束直寫設備（JEOL JBX-9500 FS），可直寫10納米量級的圖形。中心擁有當今最先進的聚焦離子束系統、掃描電子顯微鏡，同時還配備了薄膜沉積、圖形刻蝕、研磨拋光、劃片解理等光電晶片工藝設備，達到了微納加工、結構分析、材料表征、晶片研發的世界頂級水平。