《流動電漿中金屬平板和柵網附近鞘和預鞘結構》是依託中國科學技術大學，由馬錦秀擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：流動電漿中金屬平板和柵網附近鞘和預鞘結構
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：馬錦秀
- 依託單位：中國科學技術大學
- 負責人職稱：教授
- 批准號：10875121
- 研究期限：2009-01-01 至 2011-12-31
- 申請代碼：A2901
- 支持經費：40（萬元）
中文摘要
電漿邊界層結構是深層次的基本問題，但人們對此了解仍很不完善，對此研究不僅具有學術意義，而且無論在高溫聚變電漿還是在低溫電漿材料處理等領域都具有重要套用價值。該領域當前的主要問題之一是流動電漿中邊界層結構的理論模型和實驗診斷缺乏。此外平板、柵網等電極邊界條件相差頗大，對邊界層結構的影響尚不清楚。本項目針對這些問題，以流動電漿中的鞘和預鞘結構為主線，利用精細發射探針等工具診斷邊界層中參數分布，擬開展平板和柵網兩側邊界層結構與電漿流動速度和邊界條件關係的實驗研究和理論分析，並研究發射探針與極板鞘層的相互影響、以及利用半球和平面馬赫探針診斷飽和離子流的角分布，以期獲得鞘層厚度和預鞘電位降等物理量隨流速和電極透射率等參數變化的實驗規律和理論解釋，並在一定參數範圍內驗證非磁化馬赫探針的模型問題。
