| 中文名稱 | 活性反應蒸鍍 |
| 英文名稱 | activated reactive evaporation deposition |
| 定 義 | 在離子鍍膜過程中，向真空室導入反應氣體，通過各种放電方式使蒸發離子與反應氣體作用使其活化，加速它們之間的反應，在基底表面獲得所需化學配比的化合物膜。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |
| 中文名稱 | 活性反應蒸鍍 |
| 英文名稱 | activated reactive evaporation deposition |
| 定 義 | 在離子鍍膜過程中，向真空室導入反應氣體，通過各种放電方式使蒸發離子與反應氣體作用使其活化，加速它們之間的反應，在基底表面獲得所需化學配比的化合物膜。 |
| 套用學科 | 材料科學技術（一級學科），材料科學技術基礎（二級學科），材料合成、製備與加工（三級學科），薄膜製備技術（四級學科） |