Hydrogen Overvoltage 氫超電壓，氫過電壓
由於電鍍時會有 H＋被還原成H２，而在陰極表面出現，以硫酸鋅溶液之鍍鋅為例，前述"電動次序表"中所列之數據，鋅離子之"沉積"電壓Zn===Zn卄為 -0.762 V，而氫離子的沉積電壓為2H＋====H２ 為 0.0000V，由此二式可知鋅比氫活潑，或氫比鋅安定。故當還原反應發生時，氫離子應比鋅離子有更多的機會被還原出而鍍在陰極上。換言之，在某一電壓下進行鍍鋅時，將會有多量的氫氣產生，而不易有鋅出現才對。然而這種理論卻與實際所觀察到的事實卻恰好相反，此即表示，若欲將氫離子還原成為氫氣時，勢必還需比 0.0000 V 更高的電壓才行。此種對氫離子在實際上比理論上所"高出"的沉積電壓即為"Hydrogen Overvoltage"。若就提高電鍍效率及減少"氫脆"的立場而言，當然是希匡金屬的沉積愈多愈好，氫氣還原的愈少愈好。因而，當"氫超電壓"愈高時，對電鍍愈有利。"氫超電壓"是鍍液的一種特性，也是鍍液與被鍍金屬底材間所配合的一種關係。如於酸性鎳鍍液中，欲在白金、鑄鐵，或鋅壓鑄對象上鍍出光澤鎳時就很困難。因其等所呈現的"氫超電壓"太低，故在陰極上會產生大量的氫氣，而不易鍍上鎳層。因而必須先用"氫超電壓"較高的鹼性氰化銅去打底(Strike)，有了銅層之後，在酸性鍍鑽溶液中的氫超電壓，其情況會完全改觀，也才能繼續鍍鎳。
