氫氟酸浸出

基本信息

氫氟酸是氟化氫氣體的水溶液,為無色透明至淡黃色冒霧液體。有刺激性氣味。分子式HF-H2O。相對密度1.15～1.18。沸點112.2℃(按重量百分比計為38.2%)。市售通常濃度:約47%。是弱酸。氟化氫的水溶液，其溶質的質量分數可達35.35%。無色溶液，有毒。最濃時密度1.14g/cm3，沸點393.15K（120℃）。發煙霧。具弱酸性，但濃時的電離度比稀時大而與一般弱電解質有別。腐蝕性強，對牙、骨損害較嚴重。對矽的化合物有強腐蝕性。應在密閉的塑膠瓶內保存。用HF溶於水而得。用於雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發酵、電拋光和清洗腐蝕半導體矽片（與HNO3的混酸）。因為氫原子和氟原子間結合的能力相對較強，使得氫氟酸在水中不能完全解離。氫氟酸能夠溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化矽），生成氣態的四氟化矽反應方程式如下：

簡介

SiO2(s)+4HF(aq)→SiF4(aq)+2H2O(l)
正因如此，它必須儲存在塑膠容器中（理論上講，放在聚四氟乙烯做成的容器中會更好）。氫氟酸沒有還原性。如果要長期儲存，不僅需要一個密封容器，而且容器中應儘可能將空氣排盡。
工業製法：工業上用螢石（氟化鈣CaF2）和濃硫酸來製造氫氟酸。加熱到250攝氏度時，這兩種物質便反應生成氟化氫。

反應方程式為：CaF2+H2SO4→2HF+CaSO4
這個反應生成的蒸氣是氟化氫、硫酸和其他幾種副產品的混合物。在此之後氟化氫可以通過蒸餾來提純。

用途

由於氫氟酸溶解氧化物的能力，它在鋁和鈾的提純中起著重要作用。氫氟酸也用來蝕刻玻璃，半導體工業使用它來除去矽表面的氧化物，在煉油廠中它可以用作異丁烷和丁烷的烷基化反應的催化劑，除去不鏽鋼表面的含氧雜質的“浸酸”過程中也會用到氫氟酸。氫氟酸也用於多種含氟有機物的合成，比如Teflon(聚四氟乙烯）還有氟利昂一類的致冷劑。