氣體放電激勵是將氣體密封在細玻璃管內,在其兩端加電壓,通過氣體放電的方法來進行激勵，整個激勵裝置通常由放電電極和放電電源組成。
泵浦源的作用是對雷射工作物質進行激勵，將激活粒子從基態抽運到高能級，以實現粒子數反轉。根據工作物質和雷射器運轉條件的不同。可以採取不同的激勵方式和激勵裝置。常見的有以下4種:光學激勵(光泵浦)。光泵浦是利用外界光源發出的光來輻照雷射工作物質以實現粒子數反轉的，整個激勵裝置，通常是由氣體放電光源(如氙燈、氨燈)和聚光器組成。固體雷射器一般採用普通光源(如脈衝氙燈)或是半導體雷射器作為泵浦源，對雷射工作物質進行光照。氣體放電激勵。對於氣體雷射工作物質,通常是將氣體密封在細玻璃管內,在其兩端加電壓,通過氣體放電的方法來進行激勵，整個激勵裝置通常由放電電極和放電電源組成。化學激勵。化學激勵是利用在雷射工作物質內部發生的化學反應過程來實現粒子數反轉的,通常要求有適當的化學反應物和相應的引發措施。核能激勵。核能激勵是利用小型核裂變反應所產生的裂變碎片、高能粒子或放射線來激勵雷射工作物質並實現粒子數反轉的。
