氣體分配裝置包括上中下三層分配板，三層分配板之間形成兩條相互隔離的氣體輸送路徑，該兩條氣體輸送路徑完全隔離，容易反應的氣體因此可以通過不同的輸送路徑進入電漿處理設備的反應腔室，有效避免了容易反應的氣體在氣體分配裝置中的接觸，進而完全消除了氣體在進入反應腔室之前發生反應的可能。同時，由於上述兩條氣體輸送路徑相交錯，自不同輸送路徑進入反應腔室的兩路氣體可以實現較為充分的混合。
| 中文名稱 | 氣體分配裝置 |
| 英文名稱 | gas distributing device |
| 定 義 | 鐘罩式校準裝置中用於引導氣體進入或排出的部件。 |
| 套用學科 | 機械工程（一級學科），工業自動化儀表與系統（二級學科），流量測量儀表-流量測量校驗裝置和方法（三級學科） |
一種氣體分配裝置，包括：進氣板、嵌入式分配板和下分配板；其中，所述進氣板設有進氣通路、以及與進氣通路連通的容置部，所述嵌入式分配板嵌入容置部內；所述嵌入式分配板具有分配通路並且與容置部之間具有間隙；下分配板位於進氣板的下面，將嵌入式分配板封裝在所述容置部內。相應的，本發明還公開了一種採用所述氣體分配裝置的電漿處理設備。所述的氣體分配裝置結構簡單，對加工精度的要求較低，能夠降低製造成本
