《氣相光刻技術》是1990年海洋出版社出版的圖書，作者是韓階平。
基本介紹
- 書名：氣相光刻技術
- 作者：韓階平
- ISBN：7-5027-0530-9
- 頁數：164
- 出版社：海洋出版社
- 出版時間：1990-08-01
- 裝幀：平裝
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
光刻技術直接影響著半導體器件的性能和成品率。本書論及的光刻技術原理新穎，其中許多概念、定義都不同於常規的光刻技術，即氣相光刻技術將成為一個嶄新的領域。本書共分五部分：一、氣相法加工SiO2圖形；二、金屬膜的氣相腐蝕工藝；三、無顯影氣相光刻技術，不同光源和不同抗蝕劑的無顯影光刻特性及原理；四、利用各種粒子，對SiO2表面改性進行圖形加工的方法；五、新型光刻膠及無顯影光刻催化劑。
圖書目錄
氣相法加工SiO2圖形概述..............................韓階平（1）
顯影的氣相腐蝕
Au膜的氣相腐蝕技術.......................................................... 韓階平胥興才胥俊紅楊占坤（15）
鋁互連的氣相刻蝕.............................................韓階平呂秀英胥興才楊占坤曲慧蘭王純（28）
無顯影光刻各種抗蝕劑的無顯影腐蝕特性的研究...................................韓階平劉惠泉寇清江（39）
氮化矽無顯影氣相光刻技術.........................................韓階平劉惠泉寇清江呂秀英曲慧蘭（56）
離子束曝光的無顯影刻蝕.....................王培大韓階平（64）
電子束無顯影光刻的參數特性..................................孫毓平韓階平梁俊厚葛璜梁久春（72）
5-硝基苊光致特性的研究..........................................韓階平鐘慧莉馬俊如王守武（85）
5-硝基苊的光化反應..............韓 階平馬俊如王守武（97）
增感劑的新作用............................................韓階平（112）
二氧化矽正負圖形變化的新方法..............................韓階平金鐘元徐衛東陳夢真（116）
利用SiO2表面改性加工圖形離子注入抗蝕技術......................................韓階平王培大馬俊如王守武（121）
電子、離子和電漿對SiO2的表面改性 ................韓階平王培大陳鋒金鐘元陳夢真（130）
新型光刻膠直接形成SiO2圖形的新方法.........................................韓階平滕雲徐衛東金鐘元（141）
遠紫外無顯影光刻的催化劑及工藝研究.........................................韓階平侯豪情（148）
