正性光致抗蝕劑，對某些溶劑是不可溶的，光照後變成可溶物質的一類光致抗蝕劑。在材料全息記錄過程中，曝光部分吸收光子，使得分子變軟，容易被特定的顯影溶液溶解掉，而沒有曝光的地方，分子不溶於顯影液，故在顯影的過程中不被溶解，曝光顯影后也只剩下曝光的部分形成浮雕型全息圖。
基本介紹
- 中文名：正性光致抗蝕劑
- 屬性：化學化工學術語
正性光致抗蝕劑，對某些溶劑是不可溶的，光照後變成可溶物質的一類光致抗蝕劑。在材料全息記錄過程中，曝光部分吸收光子，使得分子變軟，容易被特定的顯影溶液溶解掉，而沒有曝光的地方，分子不溶於顯影液，故在顯影的過程中不被溶解，曝光顯影后也只剩下曝光的部分形成浮雕型全息圖。
正性光致抗蝕劑，對某些溶劑是不可溶的，光照後變成可溶物質的一類光致抗蝕劑。在材料全息記錄過程中，曝光部分吸收光子，使得分子變軟，容易被特定的顯影溶液溶解掉，而沒有曝光的地方，分子不溶於顯影液，故在顯影的過程中不被溶解，曝...
光致抗蝕劑及其配套化學品phntoresist agent and its con-rletc set ehetnicals光致抗蝕劑又稱光刻膠，它是一種光敏高分子聚合物。當它受到光能照射時，分子內部發生聚合或分解反應，電子一工業在微細加工中利用這種特性能得到所需的幾何圖形。光刻膠具有光化學、抗蝕、一定的機械及耐熱特性，使用範圍已愈來愈...
電子抗蝕劑（Electron resist）是用於電子束曝光的一種抗蝕劑，屬於高分子聚合物，其性能類似於光學曝光中的光致抗蝕劑，即輻照可使其產生化學或物理變化而形成圖形。有正性電子抗蝕劑和負性電子抗蝕劑之分。一般，負性電子抗蝕劑的曝光靈敏度比正性電子抗蝕劑的要高得多，但正性電子抗蝕劑的解析度要高於負性...
②在高分子化合物中加入感光性化合物,在光照時與高分子化合物反應,如在明膠或聚乙烯醇中加入重鉻酸鹽、在環化橡膠中加入重氮化合物。③由有光聚合能力的烯類單體直接光聚合而成。感光樹脂廣泛套用於印刷工業中製版，用作光致抗蝕劑（即光刻膠）、紫外光固化塗料、光敏油墨、光固化粘合劑。套用 感光性樹脂廣泛套用...
經適當的溶劑處理，溶去可溶性部分，得到所需圖像（見圖光致抗蝕劑成像製版過程）。光刻膠廣泛用於印刷電路和積體電路的製造以及印刷製版等過程。光刻膠的技術複雜，品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照後形成不可溶物質的是負性膠；反之，對某些溶劑是不可溶的，經光照後變成...
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕塗層材料。半導體材料在表面加工時,若採用適當的有選擇性的光刻膠,可在表面上得到所...
光刻技術是指在光照作用下，藉助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術。其主要過程為：首先紫外光通過掩膜版照射到附有一層光刻膠薄膜的基片表面，引起曝光區域的光刻膠發生化學反應；再通過顯影技術溶解去除曝光區域或未曝光區域的光刻膠（前者稱正性光刻膠，後者稱負性光刻膠），使...
顯影曲線是指積體電路製造工藝中光致抗蝕劑曝光靈敏度和對比度的實驗曲線。通過改變曝光劑量，在一定的顯影條件下，通過實驗抗蝕劑厚度得的變化值繪製成的曝光劑量-抗蝕劑厚度的變化曲線被叫做顯影曲線。正性抗蝕劑的顯影曲線顯示隨著曝光劑量的增加，顯影后的曝光區域的抗蝕劑厚度逐漸減薄，在曝光劑量達到一定程度時...
5.5.2 光引發劑/光敏劑和塗層厚度的關係 5.5.3 氣氛 5.5.4 底基 5.5.5 溫度 5.6 配方舉例 參考文獻 第六章 光致抗蝕劑 6.1 引言 6.2 紫外光光致抗蝕劑 6.2.1 負性光致抗蝕劑 6.2.2 正性光致抗蝕劑 6.2.3 光刻工藝 6.3 深紫外光致抗蝕劑 6.4 電子束和X射線抗蝕劑 6.4.1...
光致抗蝕劑是一種重要的感光高分子全息記錄材料。經光照射後，光致抗蝕劑塗層中發生化學變化，隨著曝光量的不同產生不同的溶解力，用合適的溶劑顯影可使未曝光區或曝光區加速溶解。曝光部分被溶解的稱正性光致抗蝕劑，未曝光部分被溶解的稱為負性光致抗蝕劑。在全息術中使用正性光致抗蝕劑，可以得到高質量...
光致抗蝕劑 用於光加工工藝的光敏高分子，通稱光致抗蝕劑（又稱光刻膠），大量用於印刷製版和電子工業的光刻技術中。它的工作原理是受光部分發生交聯，生成難溶性的硬化膜，經加工成負像（負性膠）；或者是原來的不溶性膠受光照後變為可溶性的，經加工得正像（正性膠）。通常用的光致抗蝕劑有：①聚肉桂酸...
6.2.1 光功能原理 6.2.2 光化學反應 6.2.3 感光高分子體系的設計與構成 6.3 光敏性塗料 6.3.1 光敏塗料體系的組分 6.3.2 可見光固化材料 6.3.3 影響光敏塗料的光固化反應的因素 6.4 光致抗蝕劑 6.4.1 光致抗蝕劑的性能 6.4.2 負性光致抗蝕劑（光刻膠）6.4.3 正性光致抗蝕劑（光...
二、高分子光化學反應類型231 三、光敏高分子材料的分類232 第二節光敏塗料和光敏膠233 一、光敏塗料的結構類型234 二、光敏塗料的組成與性能關係235 三、光敏塗料的固化反應及影響因素236 四、光敏膠237 第三節光致抗蝕劑238 一、負性光致抗蝕劑239 二、正性光致抗蝕劑239 第四節高分子光穩定劑241 一、...
二、高分子光化學反應類型228 三、光敏高分子材料的分類229 第二節光敏塗料和光敏膠230 一、光敏塗料的結構類型230 二、光敏塗料的組成與性能關係232 三、光敏塗料的固化反應及影響因素233 四、光敏膠234 第三節光致抗蝕劑234 一、負性光致抗蝕劑235 二、正性光致抗蝕劑236 第四節高分子光穩定劑237 一、...
積體電路製造工藝光刻模組中，一種抗蝕劑曝光後可以同時進行正性顯影和負性顯影的技術。定義 所謂雙性顯影，是在旋塗完光刻膠並完成曝光後，可以同時進行正性顯影和負性顯影的技術。原理 在光致抗蝕劑進行正常的曝光工藝後，對潛影的基片進行兩個顯影步驟。在鹼性水溶性的正性顯影（positive-tone development）工序中...