極紫外光學鄰近效應模型分為簡單模型（single model）、複雜模型（advanced model）、所期望模型（desired model）。 基本介紹 中文名：極紫外光學鄰近效應模型外文名：EUV OPC model 簡單模型包括：陰影效應（shadowing effect）修正，即水平與垂直圖形之間要加一個偏置值（H-V mask bias），這個偏置值的大小與其相對於曝光掃描狹縫的位置有關；對掩模上所有圖形添加偏置，對所有圖形拐角進行修正；雜散光的修正模型，散射光強與圖形密度關聯，根據圖形分布計算出來。
