最佳聚焦位置

（最佳）聚焦位置是在保證掩模版上所有圖形清晰度的前提下，像面可移動的距離，即成像系統的焦深。

基本介紹

• 中文名：最佳聚焦位置
• 外文名：Best focus

原因

光學成像系統都會遇到調焦問題。根據幾何光學原理，當像面沿光軸在焦平面位置附近移動時，在一定的範圍內，所成像的模糊圓小於一定的閾值，這時所成的像仍然是清晰的。在保證清晰度的前提下，像面可移動的距離即成像系統的焦深。根據套用光學理論，如果光程差小於等於λ/4（λ為波長），系統的像幾乎接近於完善。無論哪種光學成像系統都有一個對焦或聚焦的過程，而利用光學器件成像的原理又限定了只有一個最佳聚焦位置。

當光學成像系統不滿足成像定律時，所成的圖像是模糊的，即產生了所謂的“離焦”，這是不希望發生的。這種情況下，可以通過調節某個或多個成像參數（如：焦距、像距、物距）使景物成像在系統的焦平面上，從而獲得準確聚焦的清晰圖像。

最佳聚焦位置的選擇

在積體電路光刻工藝中也遵循這樣的規則。焦深一般是通過曝光聚焦-能量矩陣（focus-energy matrix）來確定的，但是因為掩模的三維效應（mask 3D effect）越來越明顯（32 nm節點以下），該效應會導致同一塊掩模上不同尺寸圖形之間的最佳聚焦值不一樣。例如：密集線條和獨立線條的最佳聚焦值就存在著偏差。這就要求曝光系統必須保證掩模上所有的圖形都在聚焦範圍之內，即曝光系統必須有足夠的聚焦深度。