《曝光調整方法、裝置和攝像機及計算機存儲介質》是浙江大華技術股份有限公司於2018年11月5日申請的專利，該專利公布號為CN109474790B，專利公布日為2021年6月15日，發明人是潘潤發、盧二利、沈廣月、陳天鈞、陳明珠。
基本介紹
- 中文名：曝光調整方法、裝置和攝像機及計算機存儲介質
- 授權公告號 ：CN109474790B
- 授權公告日 ：2021.06.15
- 申請號 ：2018113083231
- 地址：310053浙江省杭州市濱江區濱安路1187號
- 申請日：2018.11.05
- 發明人：潘潤發; 盧二利; 沈廣月; 陳天鈞; 陳明珠
- 專利權人：浙江大華技術股份有限公司
- Int. Cl.：H04N5/235(2006.01)I
- 專利代理機構：北京同達信恆智慧財產權代理有限公司11291
- 代理人：黃志華
- 對比檔案：CN 1972385 A,2007.05.30
專利摘要
本發明公開了一種曝光調整方法、裝置和攝像機及計算機存儲介質，屬於攝像機技術領域，用於通過預測調整生效後的亮度值作為曝光調整的依據，從而緩解現有技術中出現的超調問題。該方法包括：根據拍攝的當前畫面的亮度值以及與所述當前畫面的亮度值對應的歷史曝光參數值，獲得上一次輸出的曝光參數值設定生效後的預估亮度值，其中，曝光參數包括增益、快門或者光圈；確定目標亮度值與所述預估亮度值的比值是否位於預設範圍內；在確定目標亮度值與所述預估亮度值的比值未位於預設範圍內時，根據所述目標亮度值與所述預估亮度值的比值確定新的曝光參數值，並根據新的曝光參數值進行曝光調整。
