曝光時間(半導體光刻工藝中的曝光時間)

為了提高晶片製造中版圖圖形的的尺寸精度，在每個曝光圖形處，都會按照曝光尺寸使曝光時間相應有所變化。

基本介紹

• 中文名：曝光時間
• 外文名：flashing time

相當於電子束光刻系統中電子束鄰近效應劑量調製曝光，以補償由於電子散射和背射所引起的鄰近效應對成像質量有所影響。