旋轉塗布：將要塗布的稀溶液放在平面底板上，放有底板的旋轉機開始由慢到快旋轉，由於離心力將底板上的稀溶液塗布成薄膜；這樣的工藝過程，稱為旋轉塗布。用旋轉塗布出來的薄膜厚度，可以達到從微米致納米範圍。這是在平面底板上製造薄和均勻聚合物薄膜和微電子學工業生產薄膜的通用方法。如以溶膠-凝膠為前體的氧化層微細加工；廣泛用來塗布光刻和光致抗蝕薄膜等。
旋轉塗布出來薄膜的厚度和塗布物溶液的粘度，溶劑種類，旋轉機的轉速，開始旋轉和延續的時間等有關（1）。
現在已有人從聚合物溶液的性質，溶劑和轉速等出發，預言塗出薄膜的厚度提出理論模型（2）。
參考文獻
（1）Scriven,LE(1988)"Physics and applications of dip coating and spin coating"MRS proceedings,121.
(2)D.E.Bornside et al. J.Imag. Technology 13.122(1987)
