《新型Hf基高K柵介質薄膜的製備及性能的研究》是一篇論文，作者為楊旭敏。
基本介紹
- 中文名：新型Hf基高K柵介質薄膜的製備及性能的研究
- 論文作者：楊旭敏
- 導師：吳雪梅，諸葛蘭劍
- 學位級別：理學博士
副題名
外文題名
學科專業
學位授予單位
蘇州大學
學位授予時間
2012
關鍵字
半導體材料 半導體薄膜技術 柵介質 薄膜生長 摻雜
館藏號
唯一標識符
108.ndlc.2.1100009031010001/T3F24.006068251
館藏目錄
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《新型Hf基高K柵介質薄膜的製備及性能的研究》是一篇論文，作者為楊旭敏。