微影技術

微影技術是製造電晶體及它們之間的連結的關鍵技術，套用於製造電晶體及它們之間的連結。

基本介紹

• 中文名：微影技術
• 外文名：Lithography
• 性質：關鍵技術
• 作用：製造電晶體及它們之間的連結

微影技術(Lithography)是製造電晶體及它們之間的連結的關鍵技術，其主要是指利用一定波長的紫外線透過掩膜(mask)後照射在矽晶元上，將掩膜上的電路圖像完整地複製到矽晶元上從而形成所需要的電路圖形的過程。掩膜其實可以看作是CPU核心電路的微縮“底片”，廠商事前先將一幅有著非常複雜的設計模型的原圖縮小成極細微的蝕刻掩膜。未曝光的光阻劑經化學處理及烘烤而硬化，因此能保護陰影下的區域稍後的化學蝕刻。