帥垚

帥垚，漢族，1983年7月出生，博士學位，副教授，電子科技大學講師。2009.10 - 2012.09任亥姆霍茲德勒斯登羅森多夫研究中心（HZDR）博士.研究方向為氧化物薄膜與功能器件。作為項目負責人主持國家自然科學基金，總裝預研基金等項目。

基本介紹

• 中文名：帥垚
• 國籍：中國
• 民族：漢族
• 出生日期：1983年7月
• 學位/學歷：博士
• 性別：男
• 職稱：副教授

工作履歷

帥垚，電子科技大學講師。

2013.03------至今: 電子科技大學, 講師

研究領域

氧化物薄膜的阻變效應

複雜氧化物薄膜中的電致阻變效應，包括薄膜生長的機理研究、阻變效應的微觀機制、後處理工藝對阻變特性的調控等。

熱釋電單元與線列器件

非製冷紅外熱釋電感測器、熱釋電線列器件等。

代表論文

17.Xinqiang Pan,Yao Shuai*, Chuangui Wu*, Wenbo Luo, Xiangyu Sun, Huizhong Zeng, Shengqiang Zhou, Roman Böttger, Xin Ou, Thomas Mikolajick, Wanli Zhang, Heidemarie Schmidt,Appl. Phys. Lett., 108, 032904 (2016).

16.L. Jin,Y. Shuai*, X. Ou, W.B. Luo, C.G. Wu, W.L. Zhang, D. Bürger, I. Skorupa, T. You, N. Du, O.G. Schmidt, , H. Schmidt,Appl. Surf. Sci.336, 354 (2015).

15.Tiangui You,*Yao Shuai, Wenbo Luo, Nan Du, Danilo Bürger, Ilona Skorupa, René Hübner, Stephan Henker, Christian Mayr, René Schüffny, Thomas Mikolajick, Oliver G. Schmidt, and Heidemarie Schmidt,Adv. Funct. Mater.24, 3357 (2014).

14.L. Jin,Y. Shuai*, H. Z. Zeng, W. B. Luo, C. G. Wu, W. L. Zhang, X. Q. Pan, P. Zhang, Y. R. Li,J. Mater. Sci. - Mater. Electron.26, 1727 (2014).

13.L. Jin,Y. Shuai,*X. Ou,* P. F. Siles, H. Z. Zeng, T. You, N. Du, D. Bürger, I. Skorupa, S. Zhou, W. B. Luo, C. G. Wu, W. L. Zhang, T. Mikolajick, O. G. Schmidt, andH. Schmidt*,Phys. Status Solidi (A)211, 2563 (2014).

12.Xin Ou,*Yao Shuai,*Wenbo Luo, Pablo F. Siles, Reinhard Kögler, Jan Fiedler, Helfried Reuther, Shengqiang Zhou, René Hübner, Stefan Facsko, Manfred Helm, Thomas Mikolajick, Oliver G. Schmidt, and Heidemarie Schmidt*,ACS Appl. Mater. & interfaces5, 12764 (2014).

11.N. Du, N. Manjunath,Y. Shuai, D. Bürger, I. Skorupa, R. Schüffny, C. Mayr, D. N. Basov, M. Di Ventra, O. G. Schmidt, H. Schmidt,J. Appl. Phys.115, 124501 (2014).

10.Y. Shuai,*X. Ou,* W. Luo, A. Mücklich, D. Bürger, S. Zhou, C. Wu, Y. Chen, W. Zhang, M. Helm, T. Mikolajick, O. G. Schmidt & H. Schmidt,*Scientific Reports3, 2208 (2013).

9.N. Du,Y. Shuai, W. Luo, C. Mayr, R. Schüffny, O. G. Schmidt, H. Schmidt,Rev. Sci. Instrum.84, 023903 (2013).

8.Y. Shuai,*X. Ou,* W. Luo, N. Du, C. Wu, W. Zhang, D. Bürger, C. Mayr, R. Schüffny, S. Zhou, M. Helm, H. Schmidt,IEEE Electron Dev. Lett.34, 54 (2013).

7.W. B. Luo, J. Jing,Y. Shuai, J. Zhu, W. L. Zhang, S. Zhou, S. Gemming, N. Du, H. Schmidt,J. Phys. D: Appl. Phys.46, 065307 (2013).

6.W. Luo, J. Zhu,Y. Shuai, W. Zhang, Y. Zhang, S. Zhou, S. Gemming, H. Schmidt, J. Appl. Phys.113, 154103 (2013).

5.Yao Shuai,*Xin Ou, Chuangui Wu, Wanli Zhang, Shengqiang Zhou, Danilo Buerger, Helfried Reuther, Stefan Slesazeck, Thomas Mikolajick, Manfred Helm, and Heidemarie Schmidt,J. Appl. Phys.111, 07D906 (2012).

4.Yao Shuai,*Shengqiang Zhou, Chuangui Wu, Wanli Zhang, D. Bürger, S. Slesazeck, T. Mikolajick, M. Helm, and H. Schmidt,Appl. Phys. Express4, 095802 (2011).

3.Yao Shuai,*Shengqiang Zhou, D. Bürger, M. Helm, and H. Schmidt,J. Appl. Phys.109, 124117 (2011).

2.Yao Shuai,*Shengqiang Zhou , Stephan Streit , Helfried Reuther , Danilo Bürger, Stefan Slesazeck , Thomas Mikolajick , Manfred Helm , and Heidemarie Schmidt,Appl. Phys. Lett.98, 232901 (2011).

1.Yao Shuai,*Shengqiang Zhou, Danilo Bürger, Helfried Reuther, Ilona Skorupa, Varun John, Manfred Helm, and Heidemarie Schmidt,J. Appl. Phys.109, 084105 (2011).