《工程光學基礎》是2008 年 出版的圖書，作者是吳曉紅 。
基本介紹
- 書名：工程光學基礎
- 作者：吳曉紅
- 頁數：212
- 出版時間：2008
圖書信息,內容摘要,章節目錄,
圖書信息
作者：吳曉紅
出版日期：2008
頁數：212
分類： 工業技術>工程物理學
內容摘要
本書內容包括：幾何光學基礎、理想光學系統、光學系統中的光束限制、像差概論、典型光學系統、光的波動理論基礎、光的干涉、光的衍射現象及其套用、 晶體光學基礎等。
章節目錄
模組一 幾何光學基礎
任務一 幾何光學基本定律
模組二 理想光學系統
任務一 理想光學系統的基點與基面
任務二 用圖解法求理想光學系統的物像關係
模組三 光學系統中的光束限制
任務一 光闌
模組四 像差概論
任務一 軸上點球差 彗差
任務二 其他像差
模組五 典型光學系統
任務一 眼睛的光學成像特性
模組六 光的波動理論基礎
任務一 光波的特性
模組七 光的干涉
任務一 光的干涉概述
模組八 光的衍射現象及其套用
任務一 光的衍射概述
任務二 菲涅耳衍射
模組九 晶體光學基礎
任務一 光通過單軸晶體的雙折射現象
附錄一 幾種常見透鏡
附錄二 電磁場基本方程
附錄三 基爾霍夫衍射公式
附錄四 菲涅耳衍射的振幅計算
附錄五 夫琅禾費矩孔衍射光強公式推導
附錄六 夫琅禾費圓孔衍射的光強計算公式
附錄七 光學設計基礎
附錄八 雷射技術概述
附錄九 光纖光學概述
附錄十 光電行業常見術語中英文對照
參考文獻
