層間介質，器件中不同的金屬層之間的電絕緣層。充當兩層導電金屬或者相鄰金屬線條之間的隔離膜。通常採用介電常數為3.9～4.0的二氧化矽材料。矽上有源器件和第一層金屬層之間的電絕緣層，稱“第一層層間介質”或“金屬前絕緣層”。
基本介紹
- 中文名：層間介質
- 定義：器件中不同的金屬層之間的電絕緣層
層間介質，器件中不同的金屬層之間的電絕緣層。充當兩層導電金屬或者相鄰金屬線條之間的隔離膜。通常採用介電常數為3.9～4.0的二氧化矽材料。矽上有源器件和第一層金屬層之間的電絕緣層，稱“第一層層間介質”或“金屬前絕緣層”。
層間介質，器件中不同的金屬層之間的電絕緣層。充當兩層導電金屬或者相鄰金屬線條之間的隔離膜。通常採用介電常數為3.9～4.0的二氧化矽材料。矽上有源器件和第一層金屬層之間的電絕緣層，稱“第一層層間介質”或“金屬前絕緣層”。...
其特點是細層理大致規則地與層間的分隔面（主層理）呈斜交的關係，上部與主層理截交，下部與主層理相切。可以利用斜層理的傾向了解沉積物的來源方向。簡介 這種層理是由沉積介質（水流及風）的流動造成的。當介質具有一定流速 時，底床...
所以，從這方面來說，分層存儲其實是一種在高速小容量層級的介質層與低速大容量層級的介質層之間進行一種自動或者手動數據遷移、複製、管理等操作的一種存儲技術及方案。一般來說，分層存儲中，我們將存取速度最快的那一層的介質層稱為...