射頻磁控濺射儀

射頻磁控濺射儀是一種用於物理學領域的儀器，於2016年12月01日啟用。

基本介紹

• 中文名：射頻磁控濺射儀
• 產地：美國
• 學科領域：物理學
• 啟用日期：2016年12月01日

技術指標

4英寸矽片鍍制200nm以上的Al膜，均勻性不大於+/-5%。

主要功能

薄膜製備。