《射頻感性耦合電漿中與容性耦合有關的問題研究》是依託大連理工大學,由丁振峰擔任醒目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：射頻感性耦合電漿中與容性耦合有關的問題研究
- 依託單位：大連理工大學
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：丁振峰
- 批准號：10675030
- 申請代碼：A2907
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：2007-01-01 至 2009-12-31
- 支持經費：29（萬元）
項目摘要
射頻感性耦合電漿（Inductively coupled plasma,ICP）是一種重要的電漿。電漿的脈衝運行具有諸多優點，而電負性氣體在刻蝕、沉積等領域得到廣泛套用。採用ICP源進行脈衝運行以及電負性氣體放電時，分別存在與容性耦合相關的瞬時阻抗匹配、放電不穩定性等問題。本項目研究一種能量耦合效率高、電流駐波效應小、易於起始擊穿的新型法拉第禁止系統，用於提高ICP源脈衝運行的瞬時匹配、控制電負性氣體放電不穩定性，並研究其中相關的物理問題。項目研究可以獲得新型法拉第禁止技術、高匹配性能脈衝ICP源技術、簡單有效的抑制電負性氣體ICP放電不穩定性的新技術。研究成果不僅可以用於電漿刻蝕，還可以套用於對雜質污染、重複性要求高的光膠灰化、離子源技術、光電子薄膜、納米薄膜沉積以及精細表面處理，並加深有關容性耦合對ICP放電基本過程的物理認識。
