《實用電鍍技術叢書:現代功能性鍍層(第2版)》是2013年化學工業出版社出版的圖書。
《實用電鍍技術叢書:現代功能性鍍層(第2版)》適合於從事電化學和材料科學工作的科技人員使用，也可以作為相關專業的大學生、研究生和電鍍工作者的參考書。
基本介紹
- 中文名：實用電鍍技術叢書：現代功能性鍍層
- 作者：姚素薇，張衛國，王宏智
- 語言：簡體中文
- 出版時間：2013年1月1日
- 出版社：化學工業出版社
- 頁數：420 頁
- ISBN：9787122150981
- 類別：科技
- 開本：32 開
內容簡介,圖書目錄,序言,
內容簡介
《實用電鍍技術叢書:現代功能性鍍層(第2版)》是《實用電鍍技術叢書》（第二版）之一。它著重介紹利用電鍍和化學鍍製備各種功能性鍍層，其中包括納米多層膜、顆粒膜，納米線及多層線（陣列）等，它們具有巨磁電阻、超高磁記錄密度和光電回響等特性。共分八章，內容包括：耐腐蝕性鍍層，耐磨、減摩鍍層，高溫抗氧化鍍層，磁性鍍層，抗菌鍍層，具有光學性能的鍍層，電接觸鍍層和具有催化活性的鍍層。書中較詳細地介紹了這些鍍層的製備工藝、性能及其套用，有的還對特殊功能的作用機制進行了討論。《實用電鍍技術叢書:現代功能性鍍層(第2版)》適合於從事電化學和材料科學工作的科技人員使用，也可以作為相關專業的大學生、研究生和電鍍工作者的參考書。
圖書目錄
第一章耐腐蝕性鍍層1
第一節金屬腐蝕與測試方法1
一、金屬鍍層的腐蝕1
二、金屬腐蝕的測試方法2
第二節非晶態合金鍍層10
一、非晶態鍍層的結構特點10
二、非晶態電鍍的種類14
三、電鍍法製備非晶材料的優點15
第三節Ni—P合金鍍層的性能及其套用15
一、Ni—P合金的發展狀況15
二、Ni—P合金鍍層的優良性能19
第四節化學鍍非晶態Ni—P合金30
一、化學鍍鎳液的工藝配方及工藝流程30
二、化學鍍鎳液的組成和各成分的作用31
三、化學鍍鎳液的使用壽命和維護35
第五節電鍍Ni—W非晶態合金36
一、Ni—W非晶態合金的耐腐蝕性能37
二、Ni—W非晶態合金的製備43
三、Ni—W電沉積過程與反應機理48
第六節電鍍Ni—W—P非晶態合金鍍層49
一、Ni—W—P非晶態合金的製備方法50
二、Ni—W—P非晶態合金的腐蝕行為54
第七節Fe—W非晶態鍍層的製備及其耐腐蝕性能56
一、電鍍Fe—W非晶態鍍層56
二、Fe—W非晶態鍍層的腐蝕行為與耐腐蝕機理57
參考文獻67
第二章耐磨減摩鍍層69
第一節電鍍耐磨性鍍層69
一、概述69
二、鎳基耐磨複合鍍層70
三、鈷基耐磨鍍層85
四、鉻基耐磨複合鍍層90
第二節化學鍍耐磨複合鍍層93
第三節自潤滑鍍層98
一、概述98
二、電鍍Ni/PTFE複合鍍層99
三、化學鍍自潤滑複合鍍層104
參考文獻109
第三章電鍍耐高溫抗氧化鍍層112
第一節電沉積Ni/ZrO2梯度功能鍍層112
一、梯度功能鍍層112
二、電沉積Ni/ZrO2梯度功能鍍層114
三、Ni/ZrO2梯度鍍層的高溫抗氧化性能116
四、Ni/ZrO2梯度鍍層的韌性及延展性研究121
第二節電鍍Ni—W合金梯度鍍層126
第三節非晶態Ni—P與Ni—W合金鍍層的高溫氧化性能133
一、化學鍍非晶態Ni—P合金鍍層的高溫氧化性能133
二、非晶態Ni—W合金鍍層的高溫氧化性能136
三、電刷鍍Ni—W合金鍍層及耐高溫與高溫磨損特性137
第四節金屬/陶瓷微粒複合鍍層的高溫氧化性能141
一、Ni/SiC納米複合鍍層耐高溫氧化性能141
二、Ni—W/ZrO2納米複合鍍層141
三、脈衝法製備RE—Ni—W—P/SiC複合鍍層的抗高溫氧化性能144
參考文獻149
第四章磁性鍍層150
第一節緒論150
一、概述150
二、電鍍磁記錄介質材料153
三、電鍍納米磁性材料155
四、在磁頭材料中的套用162
第二節磁學基礎知識164
一、物質的磁性164
二、磁性材料的分類168
三、磁記錄原理和磁記錄材料169
四、磁致電阻效應172
第三節電鍍巨磁電阻材料——納米金屬多層膜173
一、Cu/Co納米金屬多層膜的製備174
二、Ni80Fe20/Cu納米金屬多層膜的製備183
第四節電鍍納米金屬顆粒膜188
一、電鍍納米金屬顆粒膜189
二、納米金屬顆粒膜的X射線衍射分析（XRD）190
三、納米金屬顆粒膜的透射電鏡分析（TEM）191
四、Co含量對巨磁電阻效應的影響192
五、退火溫度對巨磁電阻效應的影響193
六、顆粒膜樣品的磁性能194
第五節高度有序鋁陽極氧化膜——AAO模板196
一、概述196
二、高度有序鋁陽極氧化膜——AAO模板的製備工藝198
三、多孔鋁陽極氧化膜（AAO模板）的表征201
四、納米孔的自組織過程203
五、AAO模板的納米力學性能研究206
六、AAO模板的實際套用207
第六節高度有序納米線（棒）陣列的電沉積方法208
一、模板電沉積法製備一維納米材料208
二、Co/Cu納米多層線（陣列）的製備208
三、多層納米線的套用217
第七節電鍍巨磁電阻材料——自旋閥多層膜[Ni80Fe20/Cu/Co/Cu]n218
一、[Ni80Fe20/Cu/Co/Cu]n自旋閥多層膜的製備219
二、自旋閥多層膜的XRD表征221
三、自旋閥多層膜的磁性能223
第八節電沉積一維巨磁電阻材料——自旋閥納米
多層線[Ni80Fe20/Cu/Co/Cu]n227
一、[Ni80Fe20/Cu/Co/Cu]n自旋閥多層線的製備228
二、[Ni80Fe20/Cu/Co/Cu]n納米多層線的表征230
三、[Ni80Fe20/Cu/Co/Cu]n納米多層線的巨磁電阻性能234
第九節磁光記錄鍍層238
一、第一代磁光記錄介質——稀土過渡族金屬（RE—TM）非晶態合金薄膜238
二、第二代磁光記錄介質——Pt（Pb）/Co超晶格多層膜239
三、超高密度磁光記錄介質——納米線陣列240
參考文獻241
第五章抗菌鍍層245第一節緒論245
一、引言245
二、表面抗菌處理技術249
第二節抗菌鋁陽極氧化膜253
一、鋁陽極氧化多孔膜的製備253
二、電沉積Cu的抗菌鋁陽極氧化膜254
三、電沉積銀的抗菌鋁陽極氧化膜257
第三節Ni與Ni—P基抗菌複合鍍層259
一、Ni—P/（載Ni2+白炭黑）複合鍍層259
二、Ni—P/載銀沸石複合鍍層及抗菌性能262
第四節Ni/TiO2與Ni—P/TiO2複合鍍層及其抗菌性能265
一、Ni/TiO2複合鍍層的製備及抗菌性能265
二、Ni—P/TiO2複合鍍層的製備269
參考文獻271
第六章具有光學性能的鍍層274
第一節基礎知識274
一、半導體的能級結構與導電性能274
二、半導體的p—n結276
三、光電效應277
四、半導體/電解質溶液界面處空間電荷的形成和能帶彎曲278
五、半導體/溶液界面光生電壓的產生280
第二節具有光學特性薄膜鍍層簡介281
一、光反射鍍層281
二、防光反射鍍層（增透膜）281
三、光的選擇性吸收鍍層282
四、具有光電回響特性的薄膜鍍層283
第三節具有光電回響特性薄膜鍍層的製備及套用286
一、高度有序鋁陽極氧化膜（AAO）的套用287
二、二氧化鈦納米管陣列電極290
三、模板合成法製備光電轉化薄膜及其光電性能302
四、模板合成光致發光納米材料——氧化鋅納米線陣列306
五、光（電）催化析氫電極材料313
參考文獻315
第七章電接觸鍍層320
第一節概述320
一、電接觸材料的發展概況320
二、電接觸與電接觸材料321
三、電接觸材料的性能322
四、接觸電阻323
第二節電接觸鍍層326
一、鉑基電接觸鍍層327
二、金基電接觸鍍層329
三、銀基電接觸鍍層337
四、展望356
參考文獻357
第八章具有催化活性的鍍層359
第一節電催化析氫和光電催化析氫電極材料359
一、引言359
二、具有電催化析氫活性的鍍層365
第二節鎳基合金析氫活性陰極367
一、Ni—S合金催化析氫電極367
二、Ni—Mo合金催化析氫電極371
三、Ni—W—P合金催化析氫電極375
四、複合型析氫活性陰極380
第三節光（電）催化析氫電極材料389
一、金屬/半導體納米微粒複合電極及其光（電）催化析氫性能389
二、半導體上沉積納米金屬鍍層及其光電催化析氫性能395
三、半導體修飾納米金屬鍍層及其光電催化析氫性能404
第四節具有析氧催化活性的鍍層410
一、具有析氧催化活性的電極410
二、析氧反應的機理研究415
參考文獻417
序言
《實用電鍍技術叢書》自2003年陸續問世以來，一直受到廣大電鍍工作者的熱烈歡迎。在相同類型書籍已琳琅滿目的今天，仍能取得如此好的成績，絕不是偶然的。這首先是因為電鍍技術面對的套用對象極其廣泛，對專業書籍的需求量的確很大。通過電鍍能達到保護金屬基體免遭腐蝕、能使金屬與非金屬器件表面獲得美麗的外觀、可賦予器件表面機械物理與化學的各種特殊功能、得以用較薄的鍍層來取代實體的貴重金屬材料等。在各行各業中為實現這些目的，自然要極大地關注它。其次，應得益於叢書選定的各冊內容都比較系統而且全面。它既包括了各個鍍種的重點工藝，又有鍍液與鍍層的檢測手段，還對大家十分關心的清潔生產及添加劑的選用問題列出專冊加以論述。另外還有一個原因就是參加編寫的人員均系國內知名的專家學者。他們不但學識淵博，而且有著相當好的生產實踐經驗。在編寫過程中注意到了理論與實際的結合，並在選材上認真貫徹了這部叢書的實用二字。
電鍍技術屬於生產技術性學科。在學科發展上它有別於基礎理論。一般說來，基礎理論性學科的發展比較緩慢，它有一定的相對穩定性，而生產工藝性學科則不然，它的發展變化是相當快的。自《實用電鍍技術叢書》開始出版至今已七年有餘，在此期間有關電鍍的新工藝、新技術、新材料、新設備會不斷湧現。這些革新自然應當在書中有所體現，才能使之緊緊跟隨上科學技術前進的步伐。顯然，叢書經修改後的再版很有必要。此外，任何一部書出版後，無論是學術內容上，還是文字敘述上總會存在一些令作者本人感到不夠滿意的地方，也就是說，總會存在一些令人遺憾之處。同時，還會有熱心的讀者提出一些理應修改的建設性意見，也需要有個改正的機會。這是個很普遍的現象。這也正是叢書再版時應當完成的任務。經過作者們的努力，我們期待著再版後的新書，會受到更多讀者的歡迎。
中國表面工程協會電鍍分會名譽理事長
