《實現可通過改變觀察角選擇性觀看的圖像的方法》是埃迪米亞法國公司於2016年12月21日申請的專利，該專利公布號為CN109414949B，專利公布日為2021年6月8日，發明人是C·萬德魯、Y·莫雷爾、B·貝爾特。
基本介紹
- 中文名：實現可通過改變觀察角選擇性觀看的圖像的方法
- 授權公告號 ：CN109414949B
- 授權公告日 ：2021.06.08
- 申請號 ：2016800801045
- 申請日：2016.12.21
- 專利權人：埃迪米亞法國公司
- 地址：法國科倫布市
- 發明人：C·萬德魯; Y·莫雷爾; B·貝爾特
- 專利代理機構：中國貿促會專利商標事務所有限公司11038
- 優先權：1563244 2015.12.23 FR
- 代理人：高欣
- PCT進入國家階段日：PCT進入國家階段日
- PCT申請數據：PCT/FR2016/053612 2016.12.21
- PCT公布數據：WO2017/109412 FR 2017.06.29
國際專利分類號,專利摘要,
國際專利分類號
Int. Cl.
B42D25/41(2006.01)I; B41M5/26(2006.01)I; B41M3/14(2006.01)I; B42D25/324(2006.01)I; B44F1/10(2006.01)I; B41M5/34(2006.01)I
專利摘要
一種藉助工具(1)通過雷射蝕刻在蝕刻區(6)中在透鏡狀格柵(9)下實現第一圖像和至少一個第二圖像的方法，所述第一圖像和至少一個第二圖像可以通過改變觀察角而選擇性可見，所述工具包括雷射器(2)、振鏡頭(3)、以及透鏡(4)，並且定義光軸(Z)和工作區(5)，所述方法包括以下步驟：把蝕刻區(6)放置在第一位置(7)，所述第一位置被包括在工作區(5)中、在工作區(5)外圍、並且垂直於光軸(Z)；蝕刻第一圖像；然後把蝕刻區(6)放置在與第一位置(7)不同的第二位置(8)，所述第二位置被包括在工作區(5)中、在工作區(5)外圍、並且垂直於光軸(Z)；蝕刻第二圖像。
