《富勒烯的磁控濺射製備和離子注入效應的動態研究》是依託武漢大學，由范湘軍擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：富勒烯的磁控濺射製備和離子注入效應的動態研究
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：范湘軍
- 依託單位：武漢大學
- 批准號：19375035
- 申請代碼：A3003
- 負責人職稱：教授
- 研究期限：1994-01-01 至 1996-12-31
- 支持經費：6（萬元）
項目摘要
研製了一套中空陰極磁控濺射裝置用於製備富勒烯。從理論上和實驗上研究了裝置參數對薄膜沉積速率和厚度均勻性的影響。石墨濺射未獲得預期的富勒烯。用簇團離子束沉積法製備了品質良好的C60多晶膜，系統研究了成膜條件對樣品成份和結構的影響。用多種離子轟擊證實了C60在低能低劑量離子注入過程中的穩定性。用原位測量電阻方法動態研究了P（+）注入對C60導電性的改變。研製了P（+）注入n-C60/Si異質結二極體，對其整流特性和光電回響特性的實驗結果從理論上進行了解釋。在研製富勒烯的電孤發生器和中空陰極磁控濺射裝置中改用N2作工作氣體製備成功β-C3N4，探索出一條新的技術路線。系統研究了β-C3N4的成份、結構以及物理和化學性質。開展了工業套用試驗。
