孿生靶磁控濺射

孿生靶磁控濺射是指將雙向交變電壓施加於磁控濺射兩個相鄰的靶上的磁控濺射

中文名稱孿生靶磁控濺射
英文名稱twin targets magnetron sputtering
定  義將雙向交變電壓施加於磁控濺射兩個相鄰的靶上的磁控濺射。
套用學科材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),薄膜製備技術(四級學科)

基本介紹

  • 中文名:孿生靶磁控濺射
  • 外文名:twin targets magnetron sputtering
  • 一級學科:材料科學技術
  • 二級學科:材料科學技術基礎
  • 中文名稱
  • 孿生靶磁控濺射
  • 定 義
  • 將雙向交變電壓施加於磁控濺射兩個相鄰的靶上的磁控濺射。
  • 套用學科
  • 材料科學技術(一級學科),材料科學技術基礎(二級學科),材料合成、製備與加工(三級學科),薄膜製備技術(四級學科)

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