《大型高功率雷射裝置設計與研製》是2021年上海科學技術出版社出版的圖書。
基本介紹
- 中文名：大型高功率雷射裝置設計與研製
- 作者：朱健強
- 類別：工業技術類圖書
- 出版社：上海科學技術出版社
- 出版時間：2021年
- 開本：16 開
- 裝幀：平裝-膠訂
- ISBN：9787547851128
內容簡介,圖書目錄,
內容簡介
慣性約束聚變(ICF)是一種核聚變技術，該技術利用雷射的衝擊波來引發核聚變反應。大型高功率雷射裝置是開展這方面研究的核心實驗平台，是世界各大國積極部署的重要發展方向之一中國科學院和中國工程物理研究院高功率雷射物理聯合實驗室在我國率先開展了大型高功率雷射裝置的總體設計與系統集成，30餘年來先後成功研製了“神光”系列雷射裝置，引領我國在該領域的發展，在國際上享有重要影響力與學術地位。本書針對高功率雷射裝置的物理需求與功能目標，從總體設計、關鍵技術及核心元器件等方面，按分系統功能作技術分解和介紹，並結合神光系列裝置的工程研製過程，總結分析關鍵技術、演化歷程，在此基礎上專門介紹神光Ⅱ高功率雷射系統在超短脈衝雷射、皮秒拍瓦雷射、飛秒拍瓦雷射以及溶膠-凝膠化學膜製備方面的研發與探索，展示我國大型高功率雷射裝置開發的前沿目標，將對我國高功率雷射裝置的工程研製和技術以及更大規模和更高性能的發展起到促進作用。讀者可通過本書對“神光”高功率雷射裝置這一大科學工程有全面、系統的認識。
圖書目錄
第一篇 神光II高功率雷射系統
第1章 神光II高功率雷射綜合平台目的和用途
第2章 神光II平台組成及功能介紹
第3章 神光II平台的物理成果
第二篇 神光II單元技術
第4章 神光II多功能注入分系統
第5章 神光II高功率雷射放大系統
第6章 神光II高功率雷射靶場技術
第7章 雷射參數測量與光束控制
第8章 神光系統工程工藝支撐技術
第三篇 高功率雷射技術
第9章 超短脈衝雷射原理與技術
第10章 神光II皮秒拍瓦雷射
第11章 神光II飛秒拍瓦雷射
第12章 光學元件檢測技術
第13章 新型光場測量技術及套用
第14章 溶膠-凝膠化學膜
索引
後記
