多真空室雷射濺射系統

多真空室雷射濺射系統是一種用於物理學、材料科學領域的工藝試驗儀器，於2006年1月1日啟用。

基本介紹

• 中文名：多真空室雷射濺射系統
• 產地：中國
• 學科領域：物理學、材料科學
• 啟用日期：2006年1月1日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電真空器件工藝實驗設備

技術指標

樣品最大尺寸2英寸，真空（極限）5.0×10-8 Pa。

主要功能

製備多種薄膜．。