多尺度級聯場增強金屬納米結構的構築和性能研究

書籍信息

作者：朱振東　

定價：69元
印次：1-1
ISBN：9787302515050
出版日期：2018.12.01
印刷日期：2018.12.11

內容簡介

本文針對兩種典型的多尺度體系開展研究，以多尺度結構的低成本、大面積製備為研究重點，以室溫納米壓印和多參數刻蝕為主導，研究多尺度結構製備中的若干共性工藝難題，實現了最小關鍵尺寸的三維金屬納米結構的高質量、穩定可控的製備。

目錄

第1章緒論

1.1表面等離激元光學概述

1.2金屬納米結構的近遠場特性及其調控

1.2.1金屬納米結構的近遠場光學特性

1.2.2表面等離激元模式雜化原理

1.2.3表面等離激元納米結構中的法諾共振

1.2.4多尺度金屬納米結構中的級聯場增強

1.2.5本節小結

1.3金屬納米結構的加工技術

1.4研究問題和研究方案

1.5本文的主要研究內容

第2章M面型光柵中LSPR模式雜化構築級聯場增強

2.1多尺度M面型光柵的理論建模和設計

2.1.1單個V型槽中的LSPR場增強

2.1.2M型多尺度結構中的LSPR場增強

2.1.3M光柵的幾何面型變化對場局域的影響

2.2M面型光柵的製備

2.2.1M面型光柵的製備工藝流程

2.2.2多尺度結構的各向異性刻蝕過程和機理

2.2.3M面型光柵的製備質量保障

2.3M面型光柵場熱點局域的實驗表征

2.4M面型光柵用作SERS襯底的實驗研究

2.4.1SERS檢測樣品的準備

2.4.2SERS信號的探測

2.4.3SERS增強因子估算

2.4.4對SERS檢測濃度下限的實驗分析

2.5本章小結

第3章金碗金豆納米天線陣列中LSPR與腔模式雜化構築級聯場增強

3.1研究背景

3.2多尺度PIC納米天線陣列的理論建模和設計

3.3PIC納米天線陣列中的法諾共振和級聯場增強

3.3.1PIC陣列中的模式雜化和法諾共振

3.3.2PIC納米結構中的級聯場增強

3.3.3關鍵幾何參數的變化對級聯場增強效果的影響

3.4PIC納米天線陣列的加工製備

3.4.1構型分析

3.4.2PIC陣列製備的工藝流程

3.4.3多尺度納米結構加工中的關鍵工藝問題

3.5PIC陣列遠場光譜特性的測量表征

3.6PIC陣列用作SERS襯底的實驗研究

3.6.1待測樣品製備和SERS信號探測

3.6.2SERS增強因子估算

3.7本章小結

第4章多尺度金屬納米結構製備中的關鍵工藝問題

4.1室溫納米壓印中的關鍵工藝問題

4.1.1壓印模板的製備

4.1.2室溫壓印光刻膠材料的選擇

4.1.3室溫納米壓印圖形轉移

4.1.4前烘溫度對圖形轉移的影響

4.1.5保真性刻蝕技術

4.2多尺度納米結構各向異性刻蝕中的關鍵工藝問題

4.2.1反應離子刻蝕的機理

4.2.2通過多參數可控各向異性刻蝕實現多尺度結構

4.3本章小結第5章總結與展望

5.1論文工作總結

5.2創新性成果

5.3研究展望

參考文獻在學期間發表的學術論文與科研成果致謝