四軸雷射圖形化直寫設備是一種用於機械工程領域的科學儀器，於2018年12月25日啟用。
基本介紹
- 中文名：四軸雷射圖形化直寫設備
- 產地：中國
- 學科領域：機械工程
- 啟用日期：2018年12月25日
技術指標,主要功能,
技術指標
最小結構尺寸0.2um 具有三個不同解析度的光學鏡頭，支持基底厚度1-15mm支持Z軸基底翹曲100um 支持掃描曝光，灰度曝光，拖曳曝光 書寫速度不小於10mm2/[email protected];40mm2/[email protected];80mm2/[email protected]; 套刻精度小於等於500nm 支持256階3D灰度光刻。
主要功能
製作微米級器件的微結構，如光學器件（光柵，光子晶體，光波導）電學器件，二極體，電晶體等，納米橋，超導器件等。
