單福凱

單福凱，，1971年生山東臨沂人，畢業於復旦大學凝聚態物理學專業。博士，教授，青島大學二層次特聘教授。以第一發明人申報韓國發明專利2項。現為韓國物理學會會員，《Journal of Applied Physics》、《Journal of Electroceramics》、《Thin Solid Films》、《Applied Surface Science》和《Applied Physics A》、《Materials Letters》等期刊的審稿人。

基本介紹

• 中文名：單福凱
• 國籍：中國
• 民族：漢族
• 出生地：山東臨沂人
• 出生日期：1971年生
• 職業：博士，教授
• 畢業院校：復旦大學凝聚態物理學專業

人物經歷

2000年7月博士畢業於復旦大學凝聚態物理學專業。

2000年—2008年在韓國釜山大學校和韓國東義大學校工作。

研究方向

主要研究方向為：寬禁帶半導體薄膜材料的生長、表征和機理研究；不同摻雜材料對氧化鋅的結構、電學和光學性質的效應研究；原子層沉積法（ALD）製備超薄高k值介電材料，其性能研究和退火效應研究；低維納米半導體材料的合成和表征性能研究。

主要貢獻

近5年發表SCI文章35篇,其中第一作者28篇，被引用200餘次，單篇他引超過20次的文章有6篇。

以第一發明人申報韓國發明專利2項。現為韓國物理學會會員，《Journal of Applied Physics》、《Journal of Electroceramics》、《Thin Solid Films》、《Applied Surface Science》和《Applied Physics A》、《Materials Letters》等期刊的審稿人。

曾10多次在美國、韓國等地參加國際學術會議，並作大會報告。協助完成或主持多項韓國國家級科研項目。