單福凱

單福凱,,1971年生山東臨沂人,畢業於復旦大學凝聚態物理學專業。博士,教授,青島大學二層次特聘教授。以第一發明人申報韓國發明專利2項。現為韓國物理學會會員,《Journal of Applied Physics》、《Journal of Electroceramics》、《Thin Solid Films》、《Applied Surface Science》和《Applied Physics A》、《Materials Letters》等期刊的審稿人。

基本介紹

  • 中文名:單福凱
  • 國籍:中國
  • 民族:漢族
  • 出生地:山東臨沂人
  • 出生日期:1971年生
  • 職業:博士,教授
  • 畢業院校復旦大學凝聚態物理學專業
人物經歷,研究方向,主要貢獻,

人物經歷

2000年7月博士畢業於復旦大學凝聚態物理學專業。
2000年—2008年在韓國釜山大學校和韓國東義大學校工作。

研究方向

主要研究方向為:寬禁帶半導體薄膜材料的生長、表征和機理研究;不同摻雜材料對氧化鋅的結構、電學和光學性質的效應研究;原子層沉積法(ALD)製備超薄高k值介電材料,其性能研究和退火效應研究;低維納米半導體材料的合成和表征性能研究。

主要貢獻

近5年發表SCI文章35篇,其中第一作者28篇,被引用200餘次,單篇他引超過20次的文章有6篇。
以第一發明人申報韓國發明專利2項。現為韓國物理學會會員,《Journal of Applied Physics》、《Journal of Electroceramics》、《Thin Solid Films》、《Applied Surface Science》和《Applied Physics A》、《Materials Letters》等期刊的審稿人。
曾10多次在美國、韓國等地參加國際學術會議,並作大會報告。協助完成或主持多項韓國國家級科研項目。

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