《單分子遠場三維納米成像技術》是依託江蘇師範大學，由蓋宏偉擔任項目負責人的面上項目。
基本介紹
- 中文名：單分子遠場三維納米成像技術
- 項目類別：面上項目
- 項目負責人：蓋宏偉
- 依託單位：江蘇師範大學
項目摘要,結題摘要,
項目摘要
提高光學影像的解析度一直是單分子分析和生物醫學成像領域的研究目標之一。遠場納米成像技術是一類能夠突破衍射極限的遠場光學成像方法。與近場掃描光學顯微鏡相比，遠場方法避免了實體探針對樣品的干擾，可實現無損檢測及活細胞檢測。單分子遠場納米成像技術是在單分子層面上突破衍射極限的遠場光學成像方法，是分子水平上的結構與功能成像，可以說是真正意義上的分子影像。這一成像技術有助於揭示系綜方法掩蓋下的結構細節和功能細節；有助於研究發生在10-200nm尺度內的分子間相互作用。本項目擬在課題組已有的工作基礎上，構建一個突破衍射極限的雙色單分子遠場三維納米螢光成像方法。以發射波長不同且已知間距的量子點對和螢光納米球為對象，利用螢光一級光譜在空間上的分離和隱失場激發深度的掃描，分別實現二維平面內和第三維上小於衍射極限距離的測量，並以典型的分子間相互作用體系為模型驗證方法的可靠性，為在複雜體系的套用打下基礎。
結題摘要
遠場光學成像的解析度受衍射極限限制，在可見光範圍內難以測量小於200nm的距離。構建三種不同長度的DNA標尺（16nm，21nm，26nm），用量子點在DNA兩端標記。利用量子點閃爍的不同步性和我們已經建立的單分子光譜成像法，對標尺兩端的量子點分時成像，通過視場內參考點的校正獲得DNA標尺雙色量子點間的距離。測量結果與理論標尺長度十分吻合，測量精度在6nm左右。這一方法既可以套用到多色量子點間的超分辨成像，也可以用於同色量子點的超分辨成像。在此之前沒有關於單分子水平上的多色量子點超分辨測量的報導。
