受激分子是2017年公布的海峽兩岸化學工程名詞。
基本介紹
- 中文名：受激分子
- 外文名： energized molecule
- 所屬學科：化學工程
- 公布年度： 2017年
公布時間,出處,
公布時間
2017年全國科學技術名詞審定委員會公審定布的海峽兩岸化學工程名詞。
出處
《海峽兩岸化學工程名詞》。
受激分子是2017年公布的海峽兩岸化學工程名詞。
受激分子是2017年公布的海峽兩岸化學工程名詞。 公布時間2017年全國科學技術名詞審定委員會公審定布的海峽兩岸化學工程名詞。出處《海峽兩岸化學工程名詞》。...
分子是由組成的原子按照一定的鍵合順序和空間排列而結合在一起的整體，這種鍵合順序和空間排列關係稱為分子結構。由於分子內原子間的相互作用。化學術語 分子是物質中能夠獨立存在的相對穩定並保持該物質物理化學特性的最小單元。分子由原子構成，原子通過一定的作用力，以一定的次序和排列方式結合成分子。以水分子為例，...
原子（分子或離子）在受激態（也稱激發態）停留的平均時間。原子通常處於能量最低的基態。它通過同其他原子或自由電子碰撞，或吸收光子，從外界獲得能量而躍遷到較高的受激態。到達受激態的原子，停留一段時間後，將通過自發發射陸續離開該能態。每個原子在受激態停留的時間長短不一，但大量原子的平均停留時間卻有...
這時原子被激發，稱為受激原子。當原子獲得更大能量時，可能有一個或多個電子脫離核的束縛成為自由電子，使原子（或分子）成為帶正電荷的系統，稱為正離子。相關原理 原子和分子的電離，中性原子或分子失去電子成為正離子的過程。處於基態的中性原子（或分子）受到電子、正離子、其他原子碰撞或吸收光子而獲得一定能量...
受激拉曼散射是指高強度的雷射和物質分子發生強烈的相互作用，使散射過程具有受激發射的性質,這種散射光是拉曼散射光,所以這一種非線性光學效應稱受激拉曼散射。受激拉曼散射表現出閾值特性,像雷射器一樣只有適當的泵功率才能產生。原理與特性 受激拉曼散射 Stimulated Raman Scattering (SRS)受激拉曼散射現象是1962年...
受激布里淵散射主要是由於入射光功率很高，由光波產生的電磁伸縮效應在物質內激起超音波，入射光受超音波散射而產生的。產生 布里淵散射起源於雷射電場與分子或固體中的聲波場的相互作用，也就是光子與聲子的相互作用，又稱聲子散射。強入射雷射場在介質中感應出強聲波場，並被它散射的一種非線性光效應。與自發布里...
原子系統自發的低度非相干受激發射，早為人們所知。在實驗室得到完全相干的受激發射是物理學實驗上的突破。1954年，C.H.湯斯和他的同實驗者（中國學者王天眷參與了此項研究）成功地獲得了氨分子微波激射放大和振盪，裝置按理論預卜運轉，遂命名為 "Maser"。蘇聯的Η.Γ.巴索夫和A.М.普羅霍羅夫也在差不多...
出現受激拉曼散射現象。經過顯微鏡形成的拉曼散射圖形，相當於用雷射脈衝來“看”活細胞內的化學組成，高靈敏地反映了細胞內不同化學成分空間分布的方法。是不用標記物的化學對比成像，由於沒有光漂白現象，可反映活的生理狀況。若用於三維成像，能觀察分子在活組織中的運動。出處 《生物物理學名詞》第二版。
正常情況下，大多數粒子處於基態，要使這些粒子產生輻射作用，必須把處於基態的粒子激發到高能階上去。由於原子內部結構不同，相同的外界條件使原子從基態激發到各高能階的機率不同。通常把原子、分子或離子激發到某一能階上的可能性稱為這一能階的“激發機率”。理論研究表明，光的發射過程分為兩種，一種是在沒有...
受激發射顯微鏡是用於三維切片觀測的設備。它結合了以前用在其他多光子顯微鏡中的實驗技術。該方法的靈敏度在包括無標記微管成像和用一個“chromogenic reporter”來監測LacZ基因表達的套用中得到展示。該方法的靈敏度比吸收方法高几個數量級，不受樣品中其他發色團的干擾，而且適用於三維切片觀測。重要的是，所有分子都...
為了實現這一目標，他們轉向探索另外一種成像模式，即受激拉曼散射顯微成像（Stimulated Raman Scattering Microscopy, SRS）。拉曼散射技術檢測入射光與分子運動相互作用而引起的頻率變化。一個化學鍵的振動即可產生特定的拉曼散射信號。基於這一特點，拉曼標記基團理論上可以小到一個化學鍵。為了實現這一構想，兩個課題組...
湯斯對微波技術十分熟悉，很快想到了實現受激輻射的辦法。他構想將腔體內大量受激分子以合適的尺寸聚集，一些分子放出的射線反射回來與其它分子相互作用，這樣就使得受激輻射不斷增強，通過腔體與分子之間形成的反饋機制將信號急劇地放大。湯斯和同事在1954年製成了世界上第一台微波激射器（maser）。他們將一束受激的...
例如，黃波脈衝染料雷射器和受激準分子雷射器已經證實可清除牛皮癬導致的皮膚損傷。Japan's Gigaphoton was established by Ushio and Komatsu as a 50-50 joint-venture company to develop, manufacture, sell and service excimer laser light sources for lithography tools in August of 2000.Gigaphoton原為小松和...