原子層沉積與光學平台設備是一種用於化學工程領域的計算機及其配套設備，於2019年9月25日啟用。
基本介紹
- 中文名：原子層沉積與光學平台設備
- 產地：中國
- 學科領域：化學工程
- 啟用日期：2019年9月25日
- 所屬類別：計算機及其配套設備 > 計算機 > 計算機
技術指標,主要功能,
技術指標
工作壓力範圍：真空~1.0bar,工作溫度：0~200℃，控制精度0.1℃；加熱套可加熱至200℃，控溫精度0.1℃。
主要功能
原子層沉積是通過將氣相前驅體脈衝交替地通入反應器並在沉積基體上化學吸附並反應而形成沉積膜的一種方法（技術）。當前驅體達到沉積基體表面，它們會在其表面化學吸附並發生表面反應。在前驅體脈衝之間需要用惰性氣體對原子層沉積反應器進行清洗。由此可知沉積反應前驅體物質能否在被沉積材料表面化學吸附是實現原子層沉積的關鍵。氣相物質在原子層沉積基體材料的表面吸附特徵可以看出，任何氣相物質在材料表面都可以進行物理吸附，但是要在材料表面的化學吸附必須具有一定的活化能，因此能否實現原子層沉積，選擇合適的反應前驅體物質是很重要的。
