卡魯塞爾2000氧化溝

卡魯塞爾2000氧化溝

卡魯塞爾2000氧化溝是1967年由荷蘭的DHV公司開發研製。它的研製目的是為滿足在較深的氧化溝溝渠中使混合液充分混合,並能維持較高的傳質效率,以克服小型氧化溝溝深較淺,混合效果差等缺陷。實踐證明該工藝具有投資省、處理效率高、可靠性好、管理方便和運行維護費用低等優點。Carrousel氧化溝使用立式表曝機,曝氣機安裝在溝的一端,因此形成了靠近曝氣機下游的富氧區和上游的缺氧區,有利於生物絮凝,使活性污泥易於沉降,設計有效水深4.0-4.5米,溝中的流速0.3米/秒。BOD5的去除率可達95%-99%,脫氮效率約為90%,除磷效率約為50%,如投加鐵鹽,除磷效率可達95%。Carrousel氧化溝是一個完全混合曝氣池,其濃度變化係數極小甚至可以忽略不計,進水將迅速得到稀釋,因此它具有很強的抗衝擊負荷能力。

基本介紹

  • 中文名:卡魯塞爾2000氧化溝
  • 開發時間:1967年
  • 開發公司:荷蘭的DHV公司
  • 優點:可靠性好、管理方便
但對於氧化溝中的某一段則具有某些推流式的特徵,即在曝氣器下游附近地段DO濃度較高,但隨著與曝氣器距離的不斷增加則DO濃度不斷降低(出現缺氧區)。這種構造方式使缺氧區和好氧區存在於一個構築物內,充分利用了其水力特性,達到了高效生物脫氮的目的。

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